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登録内容 (EID=86094)

EID=86094EID:86094, Map:0, LastModified:2013年8月27日(火) 11:39:59, Operator:[三木 ちひろ], Avail:TRUE, Censor:0, Owner:[[学科長]/[徳島大学.工学部.電気電子工学科]], Read:継承, Write:継承, Delete:継承.
種別 (必須): 国際会議 [継承]
言語 (必須):
招待 (推奨):
審査 (推奨):
カテゴリ (推奨):
共著種別 (推奨):
学究種別 (推奨):
組織 (推奨): 1.徳島大学.工学部.電気電子工学科.物性デバイス講座 [継承]
著者 (必須): 1.富永 喜久雄
役割 (任意): 共著 [継承]
貢献度 (任意):
学籍番号 (推奨):
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2. (英) Ueda Tetsuya (日) (読)
役割 (任意):
貢献度 (任意):
学籍番号 (推奨):
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3. (英) Ao Takahiro (日) (読)
役割 (任意):
貢献度 (任意):
学籍番号 (推奨):
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4. (英) Mori Ichiro (日) (読)
役割 (任意):
貢献度 (任意):
学籍番号 (推奨):
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題名 (必須): (英) ITO Films Prepared on c-Axis Oriented AlN Films by Facing Target Sputtering System  (日)    [継承]
副題 (任意):
要約 (任意): (英)   (日) 本論文は,透明導電膜であるITO膜の低抵抗化を図る際に,結晶粒の成長方向の混在が影響するかどうかについて調べるために,c軸のそろった窒化アルミニウム膜上にITO膜を成長させて,その特性を評価したものである.(111)に配向したITO多結晶膜が実現でき,キャリア密度の向上が認められたが,移動度の低下をともない,結局は同程度の抵抗率にとどまった.   [継承]
キーワード (推奨):
発行所 (推奨):
誌名 (必須): (英) Transaction of the Materials Research Society of Japan (日) (読)
ISSN (任意):
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(必須): 20 [継承]
(必須): [継承]
(必須): 554 557 [継承]
都市 (必須):
年月日 (必須): 西暦 1996年 0月 初日 (平成 8年 0月 初日) [継承]
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和文冊子 ● Kikuo Tominaga, Tetsuya Ueda, Takahiro Ao and Ichiro Mori : ITO Films Prepared on c-Axis Oriented AlN Films by Facing Target Sputtering System, Transaction of the Materials Research Society of Japan, Vol.20, 554-557, (都市), (month)1996.
欧文冊子 ● Kikuo Tominaga, Tetsuya Ueda, Takahiro Ao and Ichiro Mori : ITO Films Prepared on c-Axis Oriented AlN Films by Facing Target Sputtering System, Transaction of the Materials Research Society of Japan, Vol.20, 554-557, (都市), (month)1996.

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