『徳島大学 教育・研究者情報データベース (EDB)』---[学外] /
ID: Pass:

登録内容 (EID=78295)

EID=78295EID:78295, Map:0, LastModified:2009年3月11日(水) 12:34:27, Operator:[三木 ちひろ], Avail:TRUE, Censor:0, Owner:[森賀 俊広], Read:継承, Write:継承, Delete:継承.
組織 (推奨): 1.徳島大学.工学部.化学応用工学科.化学プロセス工学講座 [継承]
種別 (必須): 特許 [継承]
出願国 (必須): 1.国内 [継承]
発明者 (必須): 1.中林 一朗
役割 (任意):
貢献度 (任意):
学籍番号 (推奨):
[継承]
2.森賀 俊広 ([徳島大学.大学院社会産業理工学研究部.理工学域.応用化学系.化学プロセス工学分野]/[徳島大学.理工学部.理工学科.応用化学システムコース.化学プロセス工学講座])
役割 (任意):
貢献度 (任意):
学籍番号 (推奨):
[継承]
3.富永 喜久雄
役割 (任意):
貢献度 (任意):
学籍番号 (推奨):
[継承]
出願人 (推奨): 1.大倉工業株式会社 [継承]
2.中林 一朗 [継承]
3.森賀 俊広 ([徳島大学.大学院社会産業理工学研究部.理工学域.応用化学系.化学プロセス工学分野]/[徳島大学.理工学部.理工学科.応用化学システムコース.化学プロセス工学講座]) [継承]
4.富永 喜久雄 [継承]
名称 (必須): (英)   (日) 透明導電膜,及びその形成方法   [継承]
要約 (任意):
キーワード (推奨):
出願 (必須): 2002-150052
出願年月日 (必須): 西暦 2002年 5月 24日 (平成 14年 5月 24日) [継承]
[継承]
開示 (必須):
番号 (必須): 2003-346559 [継承]
年月日 (必須): 西暦 2003年 12月 5日 (平成 15年 12月 5日) [継承]
備考 (任意):

標準的な表示

和文冊子 ● 中林 一朗, 森賀 俊広, 富永 喜久雄 : 透明導電膜,及びその形成方法, 特願2002-150052 (2002年5月), (開示), 特許第2003-346559号 (2003年12月).
欧文冊子 ● Ichiro Nakabayashi, Toshihiro Moriga and Kikuo Tominaga : 透明導電膜,及びその形成方法, 2002-150052 (May 2002), (開示), 2003-346559 (Dec. 2003).

関連情報

Number of session users = 0, LA = 1.09, Max(EID) = 375612, Max(EOID) = 1006450.