『徳島大学 教育・研究者情報データベース (EDB)』---[学外] /
登録内容 (EID=382735)
| EID=382735 | EID:382735,
Map:0,
LastModified:2022年11月2日(水) 16:03:17,
Operator:[三木 ちひろ],
Avail:TRUE,
Censor:承認済,
Owner:[永瀬 雅夫],
Read:継承,
Write:継承,
Delete:継承.
|
| ○種別 (必須): | □ | 学術論文 (紀要その他)
| [継承] |
| ○言語 (必須): | □ | 英語
| [継承] |
| ○招待 (推奨): | □ | 依頼
| [継承] |
| ○審査 (推奨): |
| ○カテゴリ (推奨): |
| ○共著種別 (推奨): |
| ○学究種別 (推奨): |
| ○組織 (推奨): |
| ○著者 (必須): | 1. | 永瀬 雅夫
| ○役割 (任意): |
| ○貢献度 (任意): |
| ○学籍番号 (推奨): |
| [継承] |
| ○題名 (必須): | □ | (英) Vertically Stacked Junction Devices Fabricated Using Single-Crystal Graphene on SiC Substrate (日)
| [継承] |
| ○副題 (任意): |
| ○要約 (任意): |
| ○キーワード (推奨): | 1. | グラフェン (graphene)
| [継承] |
| 2. | 炭化ケイ素 (SiC)
| [継承] |
| 3. | (英) junction diode (日) (読)
| [継承] |
| 4. | (英) tunneling (日) (読)
| [継承] |
| 5. | (英) Far infrared (日) (読)
| [継承] |
| ○発行所 (推奨): | □ | (英) The Electrochemical Society (日) (読)
| [継承] |
| ○誌名 (必須): | □ | ECS Transactions (The Electrochemical Society)
(pISSN: 1938-5862, eISSN: 1938-6737)
| ○ISSN (任意): | □ | 1938-6737
ISSN: 1938-5862
(pISSN: 1938-5862, eISSN: 1938-6737) Title: ECS transactionsTitle(ISO): ECS TransPublisher: Electrochemical Society (NLM Catalog)
(Scopus)
(CrossRef)
(Scopus information is found. [need login])
| [継承] |
| [継承] |
| ○巻 (必須): | □ | 104
| [継承] |
| ○号 (必須): | □ | (4)
| [継承] |
| ○頁 (必須): | □ | 27 31
| [継承] |
| ○都市 (任意): |
| ○年月日 (必須): | □ | 西暦 2021年 10月 20日 (令和 3年 10月 20日)
| [継承] |
| ○URL (任意): |
| ○DOI (任意): | □ | 10.1149/10404.0027ecst (→Scopusで検索)
| [継承] |
| ○PMID (任意): |
| ○CRID (任意): |
| ○Scopus (任意): | 1. | 2-s2.0-85116860594
| [継承] |
| ○researchmap (任意): |
| ○評価値 (任意): |
| ○被引用数 (任意): |
| ○指導教員 (推奨): |
| ○備考 (任意): | 1. | (英) (日) 「国際会議」として別データ有り EID=382734
| [継承] |
|
標準的な表示
| 和文冊子 ● |
Masao Nagase : Vertically Stacked Junction Devices Fabricated Using Single-Crystal Graphene on SiC Substrate, ECS Transactions, 104, (4), 27-31, 2021. |
| 欧文冊子 ● |
Masao Nagase : Vertically Stacked Junction Devices Fabricated Using Single-Crystal Graphene on SiC Substrate, ECS Transactions, 104, (4), 27-31, 2021. |
関連情報
Number of session users = 14, LA = 34.21, Max(EID) = 467794, Max(EOID) = 1243545.