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EID=312461EID:312461, Map:0, LastModified:2018年4月23日(月) 11:13:10, Operator:[永瀬 雅夫], Avail:TRUE, Censor:承認済, Owner:[永瀬 雅夫], Read:継承, Write:継承, Delete:継承.
種別 (必須): 学術論文 (審査論文) [継承]
言語 (必須): 英語 [継承]
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審査 (推奨): Peer Review [継承]
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著者 (必須): 1. (英) Takuya Aritsuki (日) 有月 琢哉 (読) ありつき たくや
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学籍番号 (推奨): **** [ユーザ]
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2. (英) Takeshi Nakashima (日) 中島 健志 (読) なかしま たけし
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学籍番号 (推奨): **** [ユーザ]
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3. (英) Keisuke Kobayashi (日) 小林 慶祐 (読) こばやし けいすけ
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学籍番号 (推奨): **** [ユーザ]
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4.大野 恭秀 ([徳島大学.大学院社会産業理工学研究部.理工学域.電気電子系.物性デバイス分野]/[徳島大学.理工学部.理工学科.電気電子システムコース.物性デバイス講座])
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5.永瀬 雅夫
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題名 (必須): (英) Epitaxial graphene on SiC formed by the surface structure control technique  (日)    [継承]
副題 (任意):
要約 (任意): (英) The thermal decomposition of silicon carbide (SiC) is a promising method for producing wafer-scale single-crystal graphene. The optimal growth condition for high-mobility epitaxial graphene fabricated by infrared rapid thermal annealing is discussed in this paper. The surface structures, such as step terrace and graphene coverage structures, on a non-off-axis SiC(0001) substrate were well controlled by varying the annealing time in a range below 10 min. The mobility of graphene grown at 1620 °C for 5 min in 100 Torr Ar ambient had a maximum value of 2089 cm2 V%1 s%1. We found that the causes of the mobility reduction were low graphene coverage, high sheet carrier density, and nonuniformity of the step structure.  (日)    [継承]
キーワード (推奨):
発行所 (推奨): 応用物理学会 [継承]
誌名 (必須): Japanese Journal of Applied Physics, Part 1 (Regular Papers & Short Notes) ([応用物理学会])
(pISSN: 0021-4922, eISSN: 1347-4065)

ISSN (任意): 0021-4922
ISSN: 0021-4922 (pISSN: 0021-4922, eISSN: 1347-4065)
Title: Japanese journal of applied physics (2008)
Title(ISO): Jpn J Appl Phys (2008)
Supplier: 社団法人応用物理学会
Publisher: Institute of Physics
 (NLM Catalog  (CiNii NCID  (CiNii NCID  (CiNii NCID  (Scopus  (CrossRef (Scopus information is found. [need login])
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(必須): 55 [継承]
(必須): 6 [継承]
(必須): 06GF03 (4pp) [継承]
都市 (任意):
年月日 (必須): 西暦 2016年 4月 26日 (平成 28年 4月 26日) [継承]
URL (任意):
DOI (任意): 10.7567/JJAP.55.06GF03    (→Scopusで検索) [継承]
PMID (任意):
CRID (任意):
WOS : 000377484100012 [継承]
Scopus (任意): 1.2-s2.0-84974539388 [継承]
機関リポジトリ : 110895 [継承]
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標準的な表示

和文冊子 ● Aritsuki Takuya, Nakashima Takeshi, Kobayashi Keisuke, Yasuhide Ohno and Masao Nagase : Epitaxial graphene on SiC formed by the surface structure control technique, Japanese Journal of Applied Physics, Part 1 (Regular Papers & Short Notes), 55, 6, 06GF03-(4pp), 2016.
欧文冊子 ● Aritsuki Takuya, Nakashima Takeshi, Kobayashi Keisuke, Yasuhide Ohno and Masao Nagase : Epitaxial graphene on SiC formed by the surface structure control technique, Japanese Journal of Applied Physics, Part 1 (Regular Papers & Short Notes), 55, 6, 06GF03-(4pp), 2016.

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