○種別 (必須): | □ | 先端技術科学教育部 (授業概要)
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○入学年度 (必須): | □ | 西暦 2011年 (平成 23年)
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○名称 (必須): | □ | (英) Plasma Science and Technology (日) プラズマ物性工学特論 (読) ぷらずまぶっせいこうがくとくろん
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○形態 (推奨): | 1. | 講義形式とポートフォーリオ形式の併用
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○コース (必須): | 1. | 2011/[徳島大学.先端技術科学教育部.システム創生工学専攻.電気電子創生工学コース]/[博士後期課程]
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○担当教員 (必須): | 1. | 大宅 薫
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○単位 (必須): | □ | 2
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○目的 (必須): | □ | (英) The lecture aims to understand electronic, atomic and molecular collision processes in gases and solids and to present their various applications. (日) 気体および固体内の電子,原子,分子の衝突過程を理解し,そのさまざまな応用についての知識を得る.
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○概要 (必須): | □ | (英) 1) Electronic, atomic and molecular collisions in gases and solid. Plasma physics and chemistry. Surface and materials science related to plasma-solid interactions. 2) Application to material processing technologies for electronic devices. Plasma-wall interactions in controlled thermonuclear fusion devices. (日) 1)気体および固体内の電子,原子,分子の衝突過程について述べ,それらのプラズマ物理学,プラズマ化学,表面科学,材料科学などとの関連について講義する.2)プラズマ材料デバイスプロセスへの応用,核融合プラズマ·壁相互作用について紹介する.
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○キーワード (推奨): | 1. | プラズマ (plasma)
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| 2. | (英) collision theory (日) 衝突理論 (読)
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| 3. | (英) plasma-surface interaction (日) プラズマ·表面相互作用 (読)
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| 4. | (英) plasma applications (日) プラズマ応用 (読)
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○先行科目 (推奨): |
○関連科目 (推奨): |
○要件 (任意): |
○注意 (任意): |
○目標 (必須): | 1. | (英) Understanding on collision processes in gases and solids (日) 気体および固体内の電子,原子,分子の衝突過程を理解する.
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| 2. | (英) Understanding on applications to material processing technologies and plasma-wall interactions in controlled thermonuclear fusion devices. (日) プラズマ材料デバイスプロセス,核融合装置におけるプラズマ·壁相互作用について理解する.
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○計画 (必須): | 1. | (英) Introduction to collision theory (日) 衝突理論の初歩
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| 2. | (英) Interaction potential (日) 相互作用ポテンシャル
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| 3. | (英) Elastic collision and nuclear stopping power (日) 弾性衝突と核的阻止能
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| 4. | (英) Inelastic collision and electronic stopping power (日) 非弾性衝突と電子的阻止能
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| 5. | (英) Inelastic processes in gases (日) 気体中の非弾性衝突過程
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| 6. | (英) Electron and Ion transport in gases (日) 気体中の電子とイオンの輸送
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| 7. | (英) Reflection and thermal re-emission from solids (日) 固体表面でのイオン反射と再放出
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| 8. | (英) Collision mixing and diffusions in solids (日) 固体内の衝突ミキシングと拡散
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| 9. | (英) Physical sputtering and chemical sputtering (日) 物理スパッタリングと化学スパッタリング
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| 10. | (英) Plasma chemical vapor deposition deposition (日) プラズマCVD
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| 11. | (英) Plasma-assisted etching (日) プラズマ·エッチング
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| 12. | (英) Other applications to material device processing (日) その他の材料デバイスプロセスへの応用
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| 13. | (英) Plasma-wall interactions in nuclear fusion devices (日) 核融合装置におけるプラズマ·壁相互作用
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| 14. | (英) Edge plasma physics (日) 周辺プラズマ物理
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| 15. | (英) Hydrogen recycling and material erosion (日) 水素リサイクリングと材料損耗
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| 16. | (英) Conclusions and future problems (日) まとめと今後の課題
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○評価 (必須): |
○再評価 (必須): |
○対象学生 (任意): |
○教科書 (必須): |
○参考資料 (推奨): |
○URL (任意): |
○連絡先 (推奨): | 1. | 大宅 薫
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○科目コード (推奨): |
○備考 (任意): |