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EID=212618EID:212618, Map:0, LastModified:2018年5月18日(金) 13:12:01, Operator:[丹羽 実輝], Avail:TRUE, Censor:0, Owner:[丹羽 実輝], Read:継承, Write:継承, Delete:継承.
種別 (必須): 国内講演発表 [継承]
言語 (必須): 日本語 [継承]
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著者 (必須): 1. (英) Soga Keita (日) 曽我 恵太 (読) そが けいた
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学籍番号 (推奨): **** [ユーザ]
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2.丹羽 実輝 ([徳島大学.大学院社会産業理工学研究部.理工学域.光応用系.光機能材料分野]/[徳島大学.理工学部.理工学科.情報光システムコース.光機能材料講座])
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3.田中 均
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題名 (必須): (英)   (日) 2-アセトキシアクリル酸メンチルの天井温度付近での構造制御ラジカル重合   [継承]
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発行所 (推奨): 社団法人 高分子学会 [継承]
誌名 (必須): (英) (日) 第55回高分子学会年次大会 (読)
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年月日 (必須): 西暦 2006年 5月 初日 (平成 18年 5月 初日) [継承]
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和文冊子 ● 曽我 恵太, 丹羽 実輝, 田中 均 : 2-アセトキシアクリル酸メンチルの天井温度付近での構造制御ラジカル重合, 第55回高分子学会年次大会, (巻), (号), (頁), 2006年5月.
欧文冊子 ● Keita Soga, Miki Niwa and Hitoshi Tanaka : 2-アセトキシアクリル酸メンチルの天井温度付近での構造制御ラジカル重合, 第55回高分子学会年次大会, (巻), (号), (頁), May 2006.

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