○種別 (必須): | □ | 先端技術科学教育部 (授業概要)
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○入学年度 (必須): | □ | 西暦 2010年 (平成 22年)
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○名称 (必須): | □ | (英) Precision Machinery (日) 精密機械工学 (読) せいみつきかいこうがく
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○形態 (推奨): |
○コース (必須): | 1. | 2010/[徳島大学.先端技術科学教育部.知的力学システム工学専攻.機械創造システム工学コース]/[博士前期課程]
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○担当教員 (必須): | 1. | 徳島大学.工学部.機械工学科.機械工学科教員
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○単位 (必須): | □ | 2
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○目的 (必須): | □ | (英) Learning of preparation and evaluation methods on thin films which are important to micro-machines and electronic parts. (日) マイクロマシンや電子部品の製作に欠かせない薄膜に関して,その創成技術および特性評価技術について学習する.
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○概要 (必須): | □ | (英) We learn about basics of thin films, thin film preparation methods, crystal structure and stress in thin films. Since the development of residual stresses is a serious problem in thin film preparation, an evaluation and a control of the residual stresses are necessary in the fabrication of thin films. X-ray stress measurement and its application on the stress in thin films are to be understood. Recent works on stresses in thin films are introduced. (日) 薄膜の基本概念,薄膜の作製方法,薄膜の結晶性と応力を学ぶ.薄膜創成では特に残留応力の発生が問題になり,その評価と制御を適正に行う必要がある.残留応力の測定法としてのX線応力測定法およびその薄膜応力への応用を理解する.また,薄膜の応力の性質について最近の研究を紹介する.工業にかかわる科目である.
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○キーワード (推奨): | 1. | X線回折 (X-ray diffraction)
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| 2. | X線応力測定 (X-ray stress measurement)
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| 3. | 結晶構造 (crystal structure)
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| 4. | 残留応力 (residual stress)
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○先行科目 (推奨): | 1. | 材料工学 ([2010/[徳島大学.先端技術科学教育部.知的力学システム工学専攻.機械創造システム工学コース]/[博士前期課程]]/->授業概要[2009/材料工学])
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○関連科目 (推奨): | 1. | 材料物性特論 ([2010/[徳島大学.先端技術科学教育部.知的力学システム工学専攻.機械創造システム工学コース]/[博士前期課程]]/->授業概要[2009/材料物性特論])
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○要件 (任意): | □ | (英) To master a basic concept of crysital (日)
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○注意 (任意): | □ | (英) To learn by yourself thin film preparation, crystallography, X-ray diffraction, X-ray stress measurement, micromachine and so on (日)
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○目標 (必須): | 1. | (英) Understanding of thin film preparation (日) 薄膜創成法を理解する
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| 2. | (英) Understanding of X-ray stress measurement (日) X線応力測定法を理解する
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| 3. | (英) Understanding of stresses in thin films (日) 薄膜の応力を理解する
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○計画 (必須): | 1. | (英) Basics of thin film (日) 薄膜の基本概念
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| 2. | (英) Thin film preparation (日) 薄膜の作製方法
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| 3. | (英) Crystal structure and stress in thin films (日) 薄膜の結晶性と応力
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| 4. | (英) Mechanical stress measurement of thin film (日) 機械的方法による薄膜の応力測定
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| 5. | (英) X-ray diffraction (1) Characteristics of X-rays (日) X線回折(1)X線の性質
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| 6. | (英) X-ray diffraction (2) Crystal structures (日) X線回折(2)結晶の幾何学
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| 7. | (英) X-ray diffraction (3) Diffraction by an atom and a small crystal (日) X線回折(3)原子および結晶による回折
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| 8. | (英) X-ray diffraction (4) Powder diffraction (日) X線回折(4)粉末結晶からの回折
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| 9. | (英) Report and presentation (日) レポートと発表
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| 10. | (英) Principle of X-ray stress measurement (日) X線応力測定法
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| 11. | (英) Stress measurement of thn films (日) X線的方法による薄膜の応力測定
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| 12. | (英) Development of residual stress (日) 残留応力の発生
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| 13. | (英) Recovery of residual stress (日) 残留応力の回復
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| 14. | (英) Thermal stress and stress migration (日) 熱応力とストレスマイグレーション
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| 15. | (英) Application of thin films (日) 薄膜の応用
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| 16. | (英) Examination (日) 定期試験
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○評価 (必須): | □ | (英) Report & presentation 40%, examination 60% (日)
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○再評価 (必須): |
○対象学生 (任意): | □ | 開講コース学生のみ履修可能
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○教科書 (必須): | 1. | (英) None (日)
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○参考資料 (推奨): | 1. | (英) B. D. Cullity, Elements of X-ray Diffraction, Addison-Wesley (日)
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| 2. | (英) K. Wetzig and C. M. Schneider (Eds.), Metal Based Thin Films For Electronics, Wiley-VCH (日)
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○URL (任意): |
○連絡先 (推奨): | 1. | (英) Hanabusa(M317, 656-7377, hanabusa@me.tokushima-u.ac.jp) (日) 英(M317, 656-7377, hanabusa@me.tokushima-u.ac.jp) (読)
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○科目コード (推奨): |
○備考 (任意): |