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登録内容 (EID=16136)

EID=16136EID:16136, Map:0, LastModified:2014年4月30日(水) 10:35:01, Operator:[松井 栄里], Avail:TRUE, Censor:0, Owner:[日下 一也], Read:継承, Write:継承, Delete:継承.
種別 (必須): 学術論文 (審査論文) [継承]
言語 (必須): 英語 [継承]
招待 (推奨):
審査 (推奨): Peer Review [継承]
カテゴリ (推奨): 研究 [継承]
共著種別 (推奨):
学究種別 (推奨):
組織 (推奨): 1.徳島大学.工学部.機械工学科.生産システム講座 [継承]
2.徳島大学.工学部.電気電子工学科.物性デバイス講座 [継承]
著者 (必須): 1.日下 一也 ([徳島大学.大学院社会産業理工学研究部.理工学域.機械科学系.生産工学分野]/[徳島大学.理工学部.理工学科.機械科学コース.生産工学講座])
役割 (任意): 共著 [継承]
貢献度 (任意):
学籍番号 (推奨):
[継承]
2. (英) Taniguchi Daisuke (日) 谷口 大輔 (読) たにぐち だいすけ
役割 (任意): 共著 [継承]
貢献度 (任意):
学籍番号 (推奨):
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3.英 崇夫
役割 (任意): 共著 [継承]
貢献度 (任意):
学籍番号 (推奨):
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4.富永 喜久雄
役割 (任意): 共著 [継承]
貢献度 (任意):
学籍番号 (推奨):
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題名 (必須): (英) Effect of Input Power on Crystal Orientation and Residual Stress in AlN Film Deposited by dc Sputtering  (日)    [継承]
副題 (任意):
要約 (任意): (英) The crystal orientation and residual stress development in AlN films deposited by dc planar magnetron sputtering on a glass substrate were investigated by atomic force microscopy (AFM) and X-ray diffraction. The microscopic surface morphology, the film thickness and the crystal orientation were investigated for films that were deposited at a constant N2 gas pressure and a constant heating temperature of the substrate at various input powers. The following results were obtained: (1) the crystal grain size and the film thickness increased with increasing input power; (2) c-axis orientation was slightly good at high input power; (3) tensile residual stresses were obtained at low input power and large compressive stresses were obtained at high input powers of P=154 and 180 W.  (日) ガラス基板上DCプレーナマグネトロンスパッタリングによって堆積したAlN膜の結晶配向性と残留応力を原子間力顕微鏡(AFM)観察およびX線回折法により調べた.一定のN2ガス圧,一定の基板温度,いろいろな供給電力で堆積した膜の顕微鏡表面形態,膜厚および結晶配向性を調べた.次の結果が得られた.(1)結晶粒サイズと膜厚は供給電力の増加とともに増加した.(2)c軸配向性は高い供給電力でわずかに良くなった.(3)低供給電力で引張残留応力が,P=154および180Wの高供給電力で大きな圧縮応力が得られた.   [継承]
キーワード (推奨):
発行所 (推奨): Elsevier Science [継承]
誌名 (必須): Vacuum ([Elsevier Science])
(resolved by 0042-207X)
ISSN: 0042-207X (pISSN: 0042-207X, eISSN: 1879-2715)
Title: Vacuum
Title(ISO): Vacuum
Publisher: Elsevier Ltd.
 (NLM Catalog  (Scopus  (CrossRef (Scopus information is found. [need login])
(resolved by 1879-2715)
ISSN: 0042-207X (pISSN: 0042-207X, eISSN: 1879-2715)
Title: Vacuum
Title(ISO): Vacuum
Publisher: Elsevier Ltd.
 (NLM Catalog  (Scopus  (CrossRef (Scopus information is found. [need login])

ISSN (任意):
[継承]
(必須): 59 [継承]
(必須): 2-3 [継承]
(必須): 806 813 [継承]
都市 (任意):
年月日 (必須): 西暦 2000年 11月 1日 (平成 12年 11月 1日) [継承]
URL (任意): http://www.sciencedirect.com/science?_ob=ArticleURL&_udi=B6TW4-418PN00-25&_user=106892&_handle=B-WA-A-A-ZV-MsSAYVW-UUA-AUECWVWVUC-AUEWYWBWUC-CDAYUZDWY-ZV-U&_fmt=full&_coverDate=11%2F30%2F2000&_rdoc=61&_orig=browse&_srch=%23toc%235552%232000%23999409997%23210831!&_cdi=5552&view=c&_acct=C000008258&_version=1&_urlVersion=0&_userid=106892&md5=79afe2ae049b9146e68234cc84e49e90 [継承]
DOI (任意): 10.1016/S0042-207X(00)00351-1    (→Scopusで検索) [継承]
PMID (任意):
NAID (任意):
WOS (任意): 000165157100061 [継承]
Scopus (任意): 2-s2.0-0001424183 [継承]
評価値 (任意):
被引用数 (任意):
指導教員 (推奨):
備考 (任意):

標準的な表示

和文冊子 ● Kazuya Kusaka, Daisuke Taniguchi, Takao Hanabusa and Kikuo Tominaga : Effect of Input Power on Crystal Orientation and Residual Stress in AlN Film Deposited by dc Sputtering, Vacuum, Vol.59, No.2-3, 806-813, 2000.
欧文冊子 ● Kazuya Kusaka, Daisuke Taniguchi, Takao Hanabusa and Kikuo Tominaga : Effect of Input Power on Crystal Orientation and Residual Stress in AlN Film Deposited by dc Sputtering, Vacuum, Vol.59, No.2-3, 806-813, 2000.

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