| 和文冊子 ● |
[氏名] 富永 喜久雄, Kikuo Tominaga,
[Email] (電子メール),
[職名・学位] (肩書)・工学博士,
[専門分野] 電気電子材料工学, 薄膜工学, 電子物性, スパッタリング, 薄膜工学,
[所属学会] 応用物理学会・American Vacuum Society・電子情報通信学会・日本真空協会・日本材料学会,
[社会活動] ,
[研究テーマ] 透明導電性酸化物スパッタ膜の低抵抗化に関する研究, 反応性スパッタリング法による窒化ガリウム，窒化インジウム，窒化アルミニウム薄膜の作製とその物性評価, 窒化物磁性体薄膜の作製とその物性, 酸化亜鉛や窒化アルミニウムの圧電性薄膜の作製とその膜評価, スパッタリング法による薄膜作製,
[キーワード] GaN, InN, ZnO, AlN, ITO, 電気電子材料, スパッタリング, 薄膜, 誘電体, 透明導電性酸化物, 酸化物, 薄膜系光触媒,
[共同研究可能テーマ] 透明導電性酸化物スパッタ膜の低抵抗化に関する研究，スパッタ時の高速酸素原子による膜衝撃の実測とその影響
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| 欧文冊子 ● |
[Name] Kikuo Tominaga,
[Email] (電子メール),
[Title, Degree] (肩書)・Philosophical Doctor,
[Field of Study] Electrical and Electronic Material Engineering, 薄膜工学, 電子物性, スパッタリング, Thin Film Technology,
[Academic Society] The Japan Society of Applied Physics・American Vacuum Society・Institute of Electronics, Information and Communication Engineers・The Vacuum Socity of Japan・The Society of Materials Science,Japan,
[Social Activity] ,
[Theme of Study] Study of transparent sputtered oxide films with low resistivity, Deposition and evaluation of sputtered films such as gallium nitride, indium nitride and aluminum nitride, Deposition and evaluation of magnetic nitride films, 酸化亜鉛や窒化アルミニウムの圧電性薄膜の作製とその膜評価, Thin Film Deposition by Sputtering Technique,
[Keyword] GaN, InN, ZnO, AlN, ITO, electrical and electronic materials, sputtering, thin film, dielectrics, transparent conducting oxide, oxide, 薄膜系光触媒,
[Collaboratible] 透明導電性酸化物スパッタ膜の低抵抗化に関する研究，スパッタ時の高速酸素原子による膜衝撃の実測とその影響
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【学位論文】…(67)