『徳島大学 教育・研究者情報データベース (EDB)』---[学外] /
ID: Pass:

登録内容 (EID=99518)

EID=99518EID:99518, Map:0, LastModified:2008年8月5日(火) 15:21:41, Operator:[日下 一也], Avail:TRUE, Censor:0, Owner:[日下 一也], Read:継承, Write:継承, Delete:継承.
種別 (必須): 国内講演発表 [継承]
言語 (必須): 日本語 [継承]
招待 (推奨):
審査 (推奨):
カテゴリ (推奨): 研究 [継承]
共著種別 (推奨):
学究種別 (推奨):
組織 (推奨): 1.徳島大学.工学部.機械工学科.生産システム講座 [継承]
2.徳島大学.工学部.電気電子工学科.物性デバイス講座 [継承]
著者 (必須): 1. (英) Hataya Mitsuhiko (日) 旗谷 充彦 (読) はたや みつひこ
役割 (任意):
貢献度 (任意):
学籍番号 (推奨):
[継承]
2. (英) Noda Kazuhiro (日) 野田 和宏 (読) のだ かずひろ
役割 (任意):
貢献度 (任意):
学籍番号 (推奨):
[継承]
3.日下 一也 ([徳島大学.大学院社会産業理工学研究部.理工学域.機械科学系.生産工学分野]/[徳島大学.理工学部.理工学科.機械科学コース.生産工学講座])
役割 (任意):
貢献度 (任意):
学籍番号 (推奨):
[継承]
4.富永 喜久雄
役割 (任意): 共著 [継承]
貢献度 (任意):
学籍番号 (推奨):
[継承]
5.英 崇夫
役割 (任意):
貢献度 (任意):
学籍番号 (推奨):
[継承]
6.松英 達也 ([新居浜工業高等専門学校])
役割 (任意):
貢献度 (任意):
学籍番号 (推奨):
[継承]
7. (英) Sakata Osami (日) 坂田 修身 (読) さかた おさみ
役割 (任意):
貢献度 (任意):
学籍番号 (推奨):
[継承]
題名 (必須): (英)   (日) ナノサイズCu薄膜の残留応力測定   [継承]
副題 (任意):
要約 (任意):
キーワード (推奨):
発行所 (推奨): 日本材料学会 [継承]
誌名 (必須): (英) (日) 日本材料学会四国支部第5期総会·学術講演会講演論文集 (読) にほんざいりょうがっかいしこくしぶだいごきそうかい がくじゅつこうえんかいこうえんろんぶんしゅう
ISSN (任意):
[継承]
(必須):
(必須):
(必須): 5 6 [継承]
都市 (必須): 徳島 (Tokushima/[日本国]) [継承]
年月日 (必須): 西暦 2004年 4月 23日 (平成 16年 4月 23日) [継承]
URL (任意):
DOI (任意):
PMID (任意):
NAID (任意):
WOS (任意):
Scopus (任意):
評価値 (任意):
被引用数 (任意):
指導教員 (推奨):
備考 (任意):

標準的な表示

和文冊子 ● 旗谷 充彦, 野田 和宏, 日下 一也, 富永 喜久雄, 英 崇夫, 松英 達也, 坂田 修身 : ナノサイズCu薄膜の残留応力測定, 日本材料学会四国支部第5期総会·学術講演会講演論文集, (巻), (号), 5-6, 2004年4月.
欧文冊子 ● Mitsuhiko Hataya, Kazuhiro Noda, Kazuya Kusaka, Kikuo Tominaga, Takao Hanabusa, Tatsuya Matsue and Osami Sakata : ナノサイズCu薄膜の残留応力測定, 日本材料学会四国支部第5期総会·学術講演会講演論文集, (巻), (号), 5-6, April 2004.

関連情報

Number of session users = 0, LA = 0.69, Max(EID) = 360812, Max(EOID) = 966428.