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登録内容 (EID=99340)

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○種別 (必須): □国内講演発表 [継承]
○言語 (必須): □日本語 [継承]
○招待 (推奨):
○審査 (推奨):
○カテゴリ (推奨): □研究 [継承]
○共著種別 (推奨):
○学究種別 (推奨):
○組織 (推奨): 1.徳島大学.工学部.機械工学科.生産システム講座 (〜2023年3月31日) [継承]
○著者 (必須): 1.日下 一也 ([徳島大学.大学院社会産業理工学研究部.理工学域.機械科学系.生産工学分野]/[徳島大学.理工学部.理工学科.機械科学コース.生産工学講座])
○役割 (任意):
○貢献度 (任意):
○学籍番号 (推奨):
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2. (英) Hanaki Eiji (日) 花木 英司 (読) はなき えいじ
○役割 (任意):
○貢献度 (任意):
○学籍番号 (推奨):
[継承]
3. (英) Nishida Masayuki (日) 西田 真之 (読) にしだ まさゆき
○役割 (任意):
○貢献度 (任意):
○学籍番号 (推奨):
[継承]
4.猪子 富久治
○役割 (任意):
○貢献度 (任意):
○学籍番号 (推奨):
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5.英 崇夫
○役割 (任意):
○貢献度 (任意):
○学籍番号 (推奨):
[継承]
○題名 (必須): □(英) Change of Residual Stress for Heat Treatment in Aluminum Films Deposited on Thermal Oxygenated Silicon Wafer  (日) 熱酸化シリコン基板上に蒸着したAl膜の熱処理による残留応力の変化   [継承]
○副題 (任意):
○要約 (任意):
○キーワード (推奨):
○発行所 (推奨): □日本材料学会 [継承]
○誌名 (必須): □ (英) Proceedings of the 31th Symposium on X-ray Studies on Mechanical Behavior of Materials (日) 第31回 X線材料強度に関するシンポジウム講演論文集 (読) だいさんじゅういっかい えっくすせんざいりょうきょうどにかんするしんぽじうむこうえんろんぶんしゅう
○ISSN (任意):
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○巻 (必須):
○号 (必須):
○頁 (必須): □129 134 [継承]
○都市 (必須): □京都 (Kyoto/[日本国]) [継承]
○年月日 (必須): □西暦 1995年 7月 20日 (平成 7年 7月 20日) [継承]
○URL (任意):
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和文冊子 ● 日下 一也, 花木 英司, 西田 真之, 猪子 富久治, 英 崇夫 : 熱酸化シリコン基板上に蒸着したAl膜の熱処理による残留応力の変化, 第31回 X線材料強度に関するシンポジウム講演論文集, (巻), (号), 129-134, 1995年7月.
欧文冊子 ● Kazuya Kusaka, Eiji Hanaki, Masayuki Nishida, Fukuji Inoko and Takao Hanabusa : Change of Residual Stress for Heat Treatment in Aluminum Films Deposited on Thermal Oxygenated Silicon Wafer, Proceedings of the 31th Symposium on X-ray Studies on Mechanical Behavior of Materials, (巻), (号), 129-134, July 1995.

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