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登録内容 (EID=90716)

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○種別 (必須): □国内講演発表 [継承]
○言語 (必須):
○招待 (推奨):
○審査 (推奨):
○カテゴリ (推奨):
○共著種別 (推奨):
○学究種別 (推奨):
○組織 (推奨): 1.徳島大学.工学部.機械工学科.知能機械学講座 [継承]
○著者 (必須): 1.高木 均 ([徳島大学.大学院社会産業理工学研究部.理工学域.機械科学系.材料科学分野]/[徳島大学.先端技術科学教育部.知的力学システム工学専攻.機械創造システム工学コース.機械科学講座]/[徳島大学.理工学部.理工学科.機械科学コース.材料科学講座]/[徳島大学.工学部.機械工学科.機械科学講座])
○役割 (任意): □(英)   (日) 総括，計画，実験，考察，第2著者(学生)の指導，口頭発表   [継承]
○貢献度 (任意):
○学籍番号 (推奨):
[継承]
2. (英) Honda Tomotaka (日) 本田 友伯 (読) ほんだ ともたか
○役割 (任意):
○貢献度 (任意):
○学籍番号 (推奨):
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3.三澤 弘明 ([北海道大学])
○役割 (任意):
○貢献度 (任意):
○学籍番号 (推奨):
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○題名 (必須): □(英) The response behavior of Ni-Ti shape memory alloy thin film  (日) Ti-Ni形状記憶合金薄膜の応答特性   [継承]
○副題 (任意):
○要約 (任意): □(英)   (日) 本講演論文は，二方向型Ti-Ni形状記憶合金の薄膜を作製し，その応答特性の評価を行った結果について報告している．大きな応答振幅を得るためには，加熱条件に注意する必要があり，過度の加熱や微弱な加熱では応答振幅は減少することを示した．試作した薄膜においては，ランプ出力5．9W，デューティ比50%の加熱条件が最適となり，応答周波数300Hzの高速応答を確認した．しかし，同一の加熱条件では応答周波数の上昇に伴い応答性は低下する傾向にあった．したがって，低周波域と高周波域では異なる加熱条件に設定することにより応答振幅を増大させることが可能になる．   [継承]
○キーワード (推奨):
○発行所 (推奨): □日本機械学会 [継承]
○誌名 (必須): □ (英) Proceedings of Mechanical Engineering Congress, 2003 Japan (日) 日本機械学会2003年度年次大会講演論文集 (読) にほんきかいがっかいねんじたいかいこうえんろんぶんしゅう
○ISSN (任意):
[継承]
○巻 (必須): □1 [継承]
○号 (必須):
○頁 (必須): □261 262 [継承]
○都市 (必須): □徳島 (Tokushima/[日本国]) [継承]
○年月日 (必須): □西暦 2003年 8月 8日 (平成 15年 8月 8日) [継承]
○URL (任意):
○DOI (任意):
○PMID (任意):
○CRID (任意):
○WOS (任意):
○Scopus (任意):
○評価値 (任意):
○被引用数 (任意):
○指導教員 (推奨):
○備考 (任意):

標準的な表示

和文冊子 ● 高木 均, 本田 友伯, 三澤 弘明 : Ti-Ni形状記憶合金薄膜の応答特性, 日本機械学会2003年度年次大会講演論文集, Vol.1, (号), 261-262, 2003年8月.
欧文冊子 ● Hitoshi Takagi, Tomotaka Honda and Hiroaki Misawa : The response behavior of Ni-Ti shape memory alloy thin film, Proceedings of Mechanical Engineering Congress, 2003 Japan, Vol.1, (号), 261-262, Aug. 2003.

関連情報

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