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EID=89160EID:89160, Map:0, LastModified:2005年4月20日(水) 20:00:08, Operator:[森賀 俊広], Avail:TRUE, Censor:0, Owner:[森賀 俊広], Read:継承, Write:継承, Delete:継承.
種別 (必須): 国内講演発表 [継承]
言語 (必須): 日本語 [継承]
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組織 (推奨): 1.徳島大学.工学部.化学応用工学科.化学プロセス工学講座 [継承]
2.徳島大学.工学部.電気電子工学科.物性デバイス講座 [継承]
著者 (必須): 1. (英) Mikawa Michio (日) 三河 通男 (読) みかわ みちお
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学籍番号 (推奨):
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2. (英) Misaki Yukinori (日) 三崎 幸典 (読) みさき ゆきのり
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学籍番号 (推奨):
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3. (英) Sakakibara Yuji (日) 榊原 友士 (読) さかきばら ゆうじ
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学籍番号 (推奨):
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4. (英) Matsuo Kei-ichiro (日) 松尾 圭一郎 (読) まつお けいいちろう
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学籍番号 (推奨):
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5.村井 啓一郎 ([徳島大学.大学院社会産業理工学研究部.理工学域.応用化学系.化学プロセス工学分野]/[徳島大学.理工学部.理工学科.応用化学システムコース.化学プロセス工学講座])
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学籍番号 (推奨):
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6.森賀 俊広 ([徳島大学.大学院社会産業理工学研究部.理工学域.応用化学系.化学プロセス工学分野]/[徳島大学.理工学部.理工学科.応用化学システムコース.化学プロセス工学講座])
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学籍番号 (推奨):
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7.富永 喜久雄
役割 (任意): 共著 [継承]
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学籍番号 (推奨):
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8.中林 一朗
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学籍番号 (推奨):
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題名 (必須): (英) Film Deposition of ZnO-In2O3 by Laser Ablation Method  (日) レーザアブレーション法によるZnO-In2O3系透明導電膜の作製   [継承]
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発行所 (推奨):
誌名 (必須): (英) (日) 第51回応用物理関係連合講演会 (読)
ISSN (任意):
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都市 (必須): 東京 (Tokyo/[日本国]) [継承]
年月日 (必須): 西暦 2004年 3月 30日 (平成 16年 3月 30日) [継承]
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和文冊子 ● 三河 通男, 三崎 幸典, 榊原 友士, 松尾 圭一郎, 村井 啓一郎, 森賀 俊広, 富永 喜久雄, 中林 一朗 : レーザアブレーション法によるZnO-In2O3系透明導電膜の作製, 第51回応用物理関係連合講演会, (巻), (号), (頁), 2004年3月.
欧文冊子 ● Michio Mikawa, Yukinori Misaki, Yuji Sakakibara, Kei-ichiro Matsuo, Kei-ichiro Murai, Toshihiro Moriga, Kikuo Tominaga and Ichiro Nakabayashi : Film Deposition of ZnO-In2O3 by Laser Ablation Method, 第51回応用物理関係連合講演会, (巻), (号), (頁), March 2004.

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