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登録内容 (EID=85964)

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種別 (必須): 学術論文 (審査論文) [継承]
言語 (必須): 英語 [継承]
招待 (推奨):
審査 (推奨): Peer Review [継承]
カテゴリ (推奨): 研究 [継承]
共著種別 (推奨):
学究種別 (推奨):
組織 (推奨): 1.徳島大学.工学部.電気電子工学科.物性デバイス講座 [継承]
著者 (必須): 1.富永 喜久雄
役割 (任意): 共著 [継承]
貢献度 (任意):
学籍番号 (推奨):
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2. (英) Ao Takahiro (日) (読)
役割 (任意): 共著 [継承]
貢献度 (任意):
学籍番号 (推奨):
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3. (英) Sato Yoshifumi (日) (読)
役割 (任意): 共著 [継承]
貢献度 (任意):
学籍番号 (推奨):
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4. (英) Mori Ichiro (日) (読)
役割 (任意): 共著 [継承]
貢献度 (任意):
学籍番号 (推奨):
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5.日下 一也 ([徳島大学.大学院社会産業理工学研究部.理工学域.機械科学系.生産工学分野]/[徳島大学.理工学部.理工学科.機械科学コース.生産工学講座])
役割 (任意): 共著 [継承]
貢献度 (任意):
学籍番号 (推奨):
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6.英 崇夫
役割 (任意): 共著 [継承]
貢献度 (任意):
学籍番号 (推奨):
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題名 (必須): (英) Magnetic Field Dependence of AlN Films in DC Planar Magnetron Sputtering with Opposed Targets  (日)    [継承]
副題 (任意):
要約 (任意): (英) AlN films were deposited on glass substrates by planar magnetron sputtering with opposed targets. Two kinds of target holders with different magnetic field distributions were used. We investigated how magnetic field configuration in a plasma region affects AlN film properties such as c-axis orientation, optical transmittance spectrum and internal stress. It was found that degree of c-axis orientation of AlN films has a close relation with the magnetic field distribution in the facing target system. When magnetic field distribution in the chamber was designed so that electrons could escape outward from the plasma region, AlN films could be deposited with little damage.  (日) 対向ターゲット式プレーナマグネトロンスパッタリングによってAlN膜を堆積した.磁場分布の異なる2種類のターゲットホルダーを用いた.我々はプラズマ領域中の磁場分布が,c軸配向性,光透過率,内部応力などのAlN膜特性にどのような影響を及ぼすかを調べた.AlN膜のc軸配向性が対向ターゲット間の磁場分布に密接な関係があることが分かった.チャンバー内の磁場分布は,電子がプラズマ領域から外へ逃れることができ,AlN膜が損傷なく堆積することができるように設計させる.   [継承]
キーワード (推奨):
発行所 (推奨):
誌名 (必須): Vacuum ([Elsevier Science])
(resolved by 0042-207X)
ISSN: 0042-207X (pISSN: 0042-207X, eISSN: 1879-2715)
Title: Vacuum
Title(ISO): Vacuum
Publisher: Elsevier Ltd.
 (NLM Catalog  (Scopus  (CrossRef (Scopus information is found. [need login])
(resolved by 1879-2715)
ISSN: 0042-207X (pISSN: 0042-207X, eISSN: 1879-2715)
Title: Vacuum
Title(ISO): Vacuum
Publisher: Elsevier Ltd.
 (NLM Catalog  (Scopus  (CrossRef (Scopus information is found. [need login])

ISSN (任意):
[継承]
(必須): 51 [継承]
(必須): 4 [継承]
(必須): 549 553 [継承]
都市 (任意):
年月日 (必須): 西暦 1998年 4月 初日 (平成 10年 4月 初日) [継承]
URL (任意): http://www.sciencedirect.com/science?_ob=ArticleURL&_udi=B6TW4-3WDKYD9-F&_user=106892&_handle=B-WA-A-A-CY-MsSAYVA-UUW-AUECAZYAYC-AUEWDVYEYC-CDAWCWVAA-CY-U&_fmt=summary&_coverDate=12%2F01%2F1998&_rdoc=13&_orig=browse&_srch=%23toc%235552%231998%23999489995%2394501!&_cdi=5552&view=c&_acct=C000008258&_version=1&_urlVersion=0&_userid=106892&md5=522cd0cbbf27196934f4142c0a014992 [継承]
DOI (任意):
PMID (任意):
NAID (任意):
WOS (任意):
Scopus (任意):
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被引用数 (任意):
指導教員 (推奨):
備考 (任意):

標準的な表示

和文冊子 ● Kikuo Tominaga, Takahiro Ao, Yoshifumi Sato, Ichiro Mori, Kazuya Kusaka and Takao Hanabusa : Magnetic Field Dependence of AlN Films in DC Planar Magnetron Sputtering with Opposed Targets, Vacuum, Vol.51, No.4, 549-553, 1998.
欧文冊子 ● Kikuo Tominaga, Takahiro Ao, Yoshifumi Sato, Ichiro Mori, Kazuya Kusaka and Takao Hanabusa : Magnetic Field Dependence of AlN Films in DC Planar Magnetron Sputtering with Opposed Targets, Vacuum, Vol.51, No.4, 549-553, 1998.

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