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登録内容 (EID=85963)

EID=85963EID:85963, Map:0, LastModified:2013年8月27日(火) 11:39:59, Operator:[三木 ちひろ], Avail:TRUE, Censor:0, Owner:[[学科長]/[徳島大学.工学部.電気電子工学科]], Read:継承, Write:継承, Delete:継承.
種別 (必須): 学術論文 (審査論文) [継承]
言語 (必須):
招待 (推奨):
審査 (推奨):
カテゴリ (推奨):
共著種別 (推奨):
学究種別 (推奨):
組織 (推奨): 1.徳島大学.工学部.電気電子工学科.物性デバイス講座 [継承]
著者 (必須): 1.富永 喜久雄
役割 (任意): 共著 [継承]
貢献度 (任意):
学籍番号 (推奨):
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2. (英) Manabe Haruhiko (日) (読)
役割 (任意):
貢献度 (任意):
学籍番号 (推奨):
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3. (英) Umezu Norio (日) (読)
役割 (任意):
貢献度 (任意):
学籍番号 (推奨):
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4. (英) Mori Ichiro (日) (読)
役割 (任意):
貢献度 (任意):
学籍番号 (推奨):
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5. (英) Ushiro Tomoko (日) (読)
役割 (任意):
貢献度 (任意):
学籍番号 (推奨):
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6.中林 一朗
役割 (任意):
貢献度 (任意):
学籍番号 (推奨):
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題名 (必須): (英) Film Properties of ZnO:Al Prepared by Cosputtering of ZnO:Al and Either Zn or Al Targets  (日)    [継承]
副題 (任意):
要約 (任意): (英)   (日) 本論文では,アルミニウム添加酸化亜鉛薄膜や添加なしの酸化亜鉛導電膜を作製するとき,過剰に供給する亜鉛原子の各々の膜に対する効果を評価した.不純物を添加しない酸化亜鉛膜は,亜鉛原子の供給したで,かなりの結晶粒成長の促進とキャリア密度の増大を達成できる.この効果はアルミ添加の酸化亜鉛ではより少ない亜鉛の供給ではるかにキャリア蜜度の増大させることができる.これらの結果は,亜鉛の過剰供給が酸化亜鉛膜の結晶粒成長の促進や欠陥の減少に寄与していることを示す.   [継承]
キーワード (推奨):
発行所 (推奨):
誌名 (必須): Journal of Vacuum Science & Technology A (American Vacuum Society/[American Institute of Physics])
(resolved by 0734-2101)
ISSN: 0734-2101 (pISSN: 0734-2101, eISSN: 1520-8559)
Title: Journal of vacuum science & technology. A, Vacuum, surfaces, and films : an official journal of the American Vacuum Society
Title(ISO): J Vac Sci Technol A
Publisher: American Institute of Physics
 (NLM Catalog  (Scopus  (CrossRef (Scopus information is found. [need login])
(resolved by 1520-8559)
ISSN: 0734-2101 (pISSN: 0734-2101, eISSN: 1520-8559)
Title: Journal of vacuum science & technology. A, Vacuum, surfaces, and films : an official journal of the American Vacuum Society
Title(ISO): J Vac Sci Technol A
Publisher: American Institute of Physics
 (NLM Catalog  (Scopus  (CrossRef (Scopus information is found. [need login])

ISSN (任意):
[継承]
(必須): 15 [継承]
(必須): 3 [継承]
(必須): 1074 1079 [継承]
都市 (任意):
年月日 (必須): 西暦 1997年 5月 初日 (平成 9年 5月 初日) [継承]
URL (任意):
DOI (任意): 10.1116/1.580432    (→Scopusで検索) [継承]
PMID (任意):
NAID (任意):
WOS (任意): A1997XE73100115 [継承]
Scopus (任意):
評価値 (任意):
被引用数 (任意):
指導教員 (推奨):
備考 (任意):

標準的な表示

和文冊子 ● Kikuo Tominaga, Haruhiko Manabe, Norio Umezu, Ichiro Mori, Tomoko Ushiro and Ichiro Nakabayashi : Film Properties of ZnO:Al Prepared by Cosputtering of ZnO:Al and Either Zn or Al Targets, Journal of Vacuum Science & Technology A, Vol.15, No.3, 1074-1079, 1997.
欧文冊子 ● Kikuo Tominaga, Haruhiko Manabe, Norio Umezu, Ichiro Mori, Tomoko Ushiro and Ichiro Nakabayashi : Film Properties of ZnO:Al Prepared by Cosputtering of ZnO:Al and Either Zn or Al Targets, Journal of Vacuum Science & Technology A, Vol.15, No.3, 1074-1079, 1997.

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