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登録内容 (EID=85958)

EID=85958EID:85958, Map:0, LastModified:2013年8月26日(月) 17:06:07, Operator:[三木 ちひろ], Avail:TRUE, Censor:0, Owner:[[学科長]/[徳島大学.工学部.電気電子工学科]], Read:継承, Write:継承, Delete:継承.
種別 (必須): 学術論文 (審査論文) [継承]
言語 (必須):
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審査 (推奨):
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共著種別 (推奨):
学究種別 (推奨):
組織 (推奨): 1.徳島大学.工学部.電気電子工学科.物性デバイス講座 [継承]
著者 (必須): 1.富永 喜久雄
役割 (任意): 共著 [継承]
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学籍番号 (推奨):
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2. (英) Ueda Tetsuya (日) (読)
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学籍番号 (推奨):
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3. (英) Kataoka Masahiro (日) (読)
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4. (英) Mori Ichiro (日) (読)
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学籍番号 (推奨):
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題名 (必須): (英) ITO Films prepared by Facing Target Sputtering System  (日)    [継承]
副題 (任意):
要約 (任意): (英)   (日) 本論文は,最近の光エレクトロニクス分野で多用されているIT(Indium Tin Oxide)透明導電膜を対向ターゲット式スパッタ法で作製し,この装置での膜作製の有効性を検討したものである.まず,高速酸素原子の膜衝撃をなくしたことが効果的であることを確認した.つぎに,酸素混入の微妙な影響が確認できた.また,ITO膜でのキャリア密度と移動度の増大が,膜の結晶性の向上にあることを示した.膜形成時のドナー原子(Sn)の酸化モデルにより実験結果の説明をおこなった.   [継承]
キーワード (推奨):
発行所 (推奨):
誌名 (必須): Thin Solid Films ([Elsevier])
(resolved by 0040-6090)
ISSN: 0040-6090 (pISSN: 0040-6090)
Title: Thin solid films
Title(ISO): Thin Solid Films
Publisher: Elsevier Sequoia
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ISSN (任意):
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(必須): 281-282 [継承]
(必須): [継承]
(必須): 194 197 [継承]
都市 (任意):
年月日 (必須): 西暦 1996年 8月 初日 (平成 8年 8月 初日) [継承]
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和文冊子 ● Kikuo Tominaga, Tetsuya Ueda, Masahiro Kataoka and Ichiro Mori : ITO Films prepared by Facing Target Sputtering System, Thin Solid Films, Vol.281-282, 194-197, 1996.
欧文冊子 ● Kikuo Tominaga, Tetsuya Ueda, Masahiro Kataoka and Ichiro Mori : ITO Films prepared by Facing Target Sputtering System, Thin Solid Films, Vol.281-282, 194-197, 1996.

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