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登録内容 (EID=85932)

EID=85932EID:85932, Map:0, LastModified:2013年8月26日(月) 16:31:49, Operator:[三木 ちひろ], Avail:TRUE, Censor:0, Owner:[[学科長]/[徳島大学.工学部.電気電子工学科]], Read:継承, Write:継承, Delete:継承.
種別 (必須): 学術論文 (審査論文) [継承]
言語 (必須):
招待 (推奨):
審査 (推奨):
カテゴリ (推奨):
共著種別 (推奨):
学究種別 (推奨):
組織 (推奨): 1.徳島大学.工学部.電気電子工学科.物性デバイス講座 [継承]
著者 (必須): 1.富永 喜久雄
役割 (任意): 共著 [継承]
貢献度 (任意):
学籍番号 (推奨):
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2. (英) Imai Hiroshi (日) (読)
役割 (任意):
貢献度 (任意):
学籍番号 (推奨):
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3. (英) Sueyoshi Yasuhiko (日) (読)
役割 (任意):
貢献度 (任意):
学籍番号 (推奨):
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題名 (必須): (英) Influence of Plasma Exposure on AlN Films in the Preparation by Facing Targets Sputtering System  (日)    [継承]
副題 (任意):
要約 (任意): (英)   (日) 本論文は,窒化アルミニウム膜をAr+N2(50%/50%)中でスパッタすると,0.01Torr以下では,膜の圧電特性の度合いを決めるc軸配向度が低下し,光透過率が吸収端付近で低下する.組成もかなり窒素過剰になり,c軸方向への結晶軸が歪むことをしめし,これがイオン照射の影響であることを示した.基板前に,接地した網電極を置くことで,イオン照射のない状態がえられることを,膜作製とその膜評価から証明した.   [継承]
キーワード (推奨):
発行所 (推奨):
誌名 (必須): Surface & Coatings Technology ([Elsevier])
(resolved by 0257-8972)
ISSN: 0257-8972 (pISSN: 0257-8972, eISSN: 1879-3347)
Title: Surface & coatings technology
Title(ISO): Surf Coat Technol
Publisher: Elsevier BV
 (NLM Catalog  (Scopus  (CrossRef (Scopus information is found. [need login])
(resolved by 1879-3347)
ISSN: 0257-8972 (pISSN: 0257-8972, eISSN: 1879-3347)
Title: Surface & coatings technology
Title(ISO): Surf Coat Technol
Publisher: Elsevier BV
 (NLM Catalog  (Scopus  (CrossRef (Scopus information is found. [need login])

ISSN (任意):
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(必須): 61 [継承]
(必須): [継承]
(必須): 182 186 [継承]
都市 (任意):
年月日 (必須): 西暦 1993年 0月 初日 (平成 5年 0月 初日) [継承]
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DOI (任意):
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和文冊子 ● Kikuo Tominaga, Hiroshi Imai and Yasuhiko Sueyoshi : Influence of Plasma Exposure on AlN Films in the Preparation by Facing Targets Sputtering System, Surface & Coatings Technology, Vol.61, 182-186, 1993.
欧文冊子 ● Kikuo Tominaga, Hiroshi Imai and Yasuhiko Sueyoshi : Influence of Plasma Exposure on AlN Films in the Preparation by Facing Targets Sputtering System, Surface & Coatings Technology, Vol.61, 182-186, 1993.

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