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登録内容 (EID=85930)

EID=85930EID:85930, Map:0, LastModified:2013年8月26日(月) 16:31:49, Operator:[三木 ちひろ], Avail:TRUE, Censor:0, Owner:[[学科長]/[徳島大学.工学部.電気電子工学科]], Read:継承, Write:継承, Delete:継承.
種別 (必須): 学術論文 (審査論文) [継承]
言語 (必須):
招待 (推奨):
審査 (推奨):
カテゴリ (推奨):
共著種別 (推奨):
学究種別 (推奨):
組織 (推奨): 1.徳島大学.工学部.電気電子工学科.物性デバイス講座 [継承]
著者 (必須): 1.富永 喜久雄
役割 (任意): 共著 [継承]
貢献度 (任意):
学籍番号 (推奨):
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2. (英) Sueyoshi Yasuhiko (日) (読)
役割 (任意):
貢献度 (任意):
学籍番号 (推奨):
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3. (英) Chong Munfei (日) (読)
役割 (任意):
貢献度 (任意):
学籍番号 (推奨):
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4.新谷 義廣
役割 (任意):
貢献度 (任意):
学籍番号 (推奨):
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題名 (必須): (英) Energetic O- Ions and O Atoms in Planar Magnetron Sputtering of ZnO Target  (日)    [継承]
副題 (任意):
要約 (任意): (英)   (日) 本論文は,スパッタ時に発生する高速酸素負イオンと高速中性酸素原子を飛行時間法で測定したものである.理論的に導いた各々の粒子のガス圧依存性と,実験データと比較して解析を進めた.アルゴン酸素混合ガスの酸素比をパラメータにした.中性酸素原子の衝突断面積はあまり酸素比に依存せず,酸素負イオンのそれは0.6-0.7で最大となる.ターゲット表面での酸素負イオンはあるごん酸素混合ガス中の酸素比が0.6で最も大きくなり,0.2のとき最小となる.   [継承]
キーワード (推奨): 1. (英) reactive sputtering of ZnO (日) (読) [継承]
2. (英) energetic negative O ions (日) (読) [継承]
3. (英) time-of-flight measurement (日) (読) [継承]
4. (英) production mechanism of O^- ions (日) (読) [継承]
発行所 (推奨): 応用物理学会 [継承]
誌名 (必須): Japanese Journal of Applied Physics ([応用物理学会])
(pISSN: 0021-4922, eISSN: 1347-4065)

ISSN (任意): 0021-4922
ISSN: 0021-4922 (pISSN: 0021-4922, eISSN: 1347-4065)
Title: Japanese journal of applied physics (2008)
Title(ISO): Jpn J Appl Phys (2008)
Supplier: 社団法人応用物理学会
Publisher: Japan Society of Applied Physics
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(必須): 32 [継承]
(必須): 9B [継承]
(必須): 4131 4135 [継承]
都市 (任意):
年月日 (必須): 西暦 1993年 9月 30日 (平成 5年 9月 30日) [継承]
URL (任意): http://ci.nii.ac.jp/naid/110003900351/ [継承]
DOI (任意): 10.1143/JJAP.32.4131    (→Scopusで検索) [継承]
PMID (任意):
NAID (任意): 110003900351 [継承]
WOS (任意):
Scopus (任意):
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被引用数 (任意):
指導教員 (推奨):
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標準的な表示

和文冊子 ● Kikuo Tominaga, Yasuhiko Sueyoshi, Munfei Chong and Yoshihiro Shintani : Energetic O- Ions and O Atoms in Planar Magnetron Sputtering of ZnO Target, Japanese Journal of Applied Physics, Vol.32, No.9B, 4131-4135, 1993.
欧文冊子 ● Kikuo Tominaga, Yasuhiko Sueyoshi, Munfei Chong and Yoshihiro Shintani : Energetic O- Ions and O Atoms in Planar Magnetron Sputtering of ZnO Target, Japanese Journal of Applied Physics, Vol.32, No.9B, 4131-4135, 1993.

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