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登録内容 (EID=85926)

EID=85926EID:85926, Map:0, LastModified:2013年8月26日(月) 16:31:49, Operator:[三木 ちひろ], Avail:TRUE, Censor:0, Owner:[[学科長]/[徳島大学.工学部.電気電子工学科]], Read:継承, Write:継承, Delete:継承.
種別 (必須): 学術論文 (審査論文) [継承]
言語 (必須):
招待 (推奨):
審査 (推奨):
カテゴリ (推奨):
共著種別 (推奨):
学究種別 (推奨):
組織 (推奨): 1.徳島大学.工学部.電気電子工学科.物性デバイス講座 [継承]
著者 (必須): 1.富永 喜久雄
役割 (任意): 共著 [継承]
貢献度 (任意):
学籍番号 (推奨):
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2. (英) Sueyoshi Yasuhiko (日) (読)
役割 (任意):
貢献度 (任意):
学籍番号 (推奨):
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3. (英) Imai Hiroshi (日) (読)
役割 (任意):
貢献度 (任意):
学籍番号 (推奨):
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4. (英) Shirai Masaki (日) (読)
役割 (任意):
貢献度 (任意):
学籍番号 (推奨):
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題名 (必須): (英) Influence of Energetic Particles on ZnO Films in the Preparation by Planar Magnetron Sputtering with Obliquely Facing Targets  (日)    [継承]
副題 (任意):
要約 (任意): (英)   (日) 本論文は,斜め対向ターゲット式スパッタ法で酸化亜鉛薄膜を作製するとき,基板に直接高速酸素負イオンと高速中性酸素原子が飛来するような配置で膜作製を行い,酸素ガス圧と基板温度を変化して酸化亜鉛膜の結晶粒成長やc軸配向度,光透過率への影響を調べた.基板温度200℃で,ガス圧0.1Torrではほとんど影響がなくなり,0.01Torrでは中程度の,0.001Torr でが顕著な影響が見られた.これは膜中に欠陥が誘起されたものといえる.基板温度を350℃に上昇したとき,この影響はやはり残ることを示した.   [継承]
キーワード (推奨): 1. (英) film bombardment (日) (読) [継承]
2. (英) ZnO films (日) (読) [継承]
3. (英) facing target system (日) (読) [継承]
発行所 (推奨): 応用物理学会 [継承]
誌名 (必須): Japanese Journal of Applied Physics ([応用物理学会])
(pISSN: 0021-4922, eISSN: 1347-4065)

ISSN (任意): 0021-4922
ISSN: 0021-4922 (pISSN: 0021-4922, eISSN: 1347-4065)
Title: Japanese journal of applied physics (2008)
Title(ISO): Jpn J Appl Phys (2008)
Supplier: 社団法人応用物理学会
Publisher: Japan Society of Applied Physics
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(必須): 31 [継承]
(必須): 9B [継承]
(必須): 3009 3012 [継承]
都市 (任意):
年月日 (必須): 西暦 1992年 9月 30日 (平成 4年 9月 30日) [継承]
URL (任意): http://ci.nii.ac.jp/naid/110003901024/ [継承]
DOI (任意): 10.1143/JJAP.31.3009    (→Scopusで検索) [継承]
PMID (任意):
NAID (任意): 110003901024 [継承]
WOS (任意):
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標準的な表示

和文冊子 ● Kikuo Tominaga, Yasuhiko Sueyoshi, Hiroshi Imai and Masaki Shirai : Influence of Energetic Particles on ZnO Films in the Preparation by Planar Magnetron Sputtering with Obliquely Facing Targets, Japanese Journal of Applied Physics, Vol.31, No.9B, 3009-3012, 1992.
欧文冊子 ● Kikuo Tominaga, Yasuhiko Sueyoshi, Hiroshi Imai and Masaki Shirai : Influence of Energetic Particles on ZnO Films in the Preparation by Planar Magnetron Sputtering with Obliquely Facing Targets, Japanese Journal of Applied Physics, Vol.31, No.9B, 3009-3012, 1992.

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