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登録内容 (EID=85925)

EID=85925EID:85925, Map:0, LastModified:2013年8月26日(月) 16:31:48, Operator:[三木 ちひろ], Avail:TRUE, Censor:0, Owner:[[学科長]/[徳島大学.工学部.電気電子工学科]], Read:継承, Write:継承, Delete:継承.
種別 (必須): 学術レター (ショートペーパー) [継承]
言語 (必須):
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共著種別 (推奨):
学究種別 (推奨):
組織 (推奨): 1.徳島大学.工学部.電気電子工学科.物性デバイス講座 [継承]
著者 (必須): 1.富永 喜久雄
役割 (任意): 共著 [継承]
貢献度 (任意):
学籍番号 (推奨):
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2. (英) Sueyoshi Yasuhiko (日) (読)
役割 (任意):
貢献度 (任意):
学籍番号 (推奨):
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3. (英) Imai Hiroshi (日) (読)
役割 (任意):
貢献度 (任意):
学籍番号 (推奨):
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4. (英) Shirai Masaki (日) (読)
役割 (任意):
貢献度 (任意):
学籍番号 (推奨):
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題名 (必須): (英) Damage in ZnO Film Preparation by Planar Magnetron Sputtering System with Obliquely Facing Target of Zn  (日)    [継承]
副題 (任意):
要約 (任意): (英)   (日) 本論文は,斜め対向ターゲット式スパッタ法で酸化亜鉛膜を作製するとき,2つのターゲットの傾斜角を大きくし,ターゲット消耗部から高速酸素負イオンや高速酸素原子が基板位置に直接飛来してくるようになると,まくの品質が低下することを,実験的に証明した.この結果は,良質膜を作製するための装置の設計に役立つ.   [継承]
キーワード (推奨): 1. (英) film damage (日) (読) [継承]
2. (英) energetic particles (日) (読) [継承]
3. (英) planar magnetron sputtering (日) (読) [継承]
4. (英) facing targets (日) (読) [継承]
発行所 (推奨): 応用物理学会 [継承]
誌名 (必須): Japanese Journal of Applied Physics ([応用物理学会])
(pISSN: 0021-4922, eISSN: 1347-4065)

ISSN (任意): 0021-4922
ISSN: 0021-4922 (pISSN: 0021-4922, eISSN: 1347-4065)
Title: Japanese journal of applied physics (2008)
Title(ISO): Jpn J Appl Phys (2008)
Supplier: 社団法人応用物理学会
Publisher: Japan Society of Applied Physics
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(必須): 31 [継承]
(必須): 6A [継承]
(必須): 1868 1869 [継承]
都市 (任意):
年月日 (必須): 西暦 1992年 6月 15日 (平成 4年 6月 15日) [継承]
URL (任意): http://ci.nii.ac.jp/naid/110003900794/ [継承]
DOI (任意): 10.1143/JJAP.31.1868    (→Scopusで検索) [継承]
PMID (任意):
NAID (任意): 110003900794 [継承]
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標準的な表示

和文冊子 ● Kikuo Tominaga, Yasuhiko Sueyoshi, Hiroshi Imai and Masaki Shirai : Damage in ZnO Film Preparation by Planar Magnetron Sputtering System with Obliquely Facing Target of Zn, Japanese Journal of Applied Physics, Vol.31, No.6A, 1868-1869, 1992.
欧文冊子 ● Kikuo Tominaga, Yasuhiko Sueyoshi, Hiroshi Imai and Masaki Shirai : Damage in ZnO Film Preparation by Planar Magnetron Sputtering System with Obliquely Facing Target of Zn, Japanese Journal of Applied Physics, Vol.31, No.6A, 1868-1869, 1992.

関連情報

Number of session users = 2, LA = 0.51, Max(EID) = 360712, Max(EOID) = 966190.