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登録内容 (EID=85828)

EID=85828EID:85828, Map:0, LastModified:2013年8月26日(月) 15:50:58, Operator:[三木 ちひろ], Avail:TRUE, Censor:0, Owner:[[学科長]/[徳島大学.工学部.電気電子工学科]], Read:継承, Write:継承, Delete:継承.
種別 (必須): 学術論文 (審査論文) [継承]
言語 (必須):
招待 (推奨):
審査 (推奨):
カテゴリ (推奨):
共著種別 (推奨):
学究種別 (推奨):
組織 (推奨): 1.徳島大学.工学部.電気電子工学科.物性デバイス講座 [継承]
著者 (必須): 1.富永 喜久雄
役割 (任意): (英)   (日) テーマの設定,実験計画と膜作製,評価,論文執筆   [継承]
貢献度 (任意):
学籍番号 (推奨):
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題名 (必須): (英) Preparation of AlN Films by Planar Magnetron Sputtering System with Facing Two Targets  (日)    [継承]
副題 (任意):
要約 (任意): (英)   (日) N2 ガス中でAlをスパッタしてAlN膜を作製した.装置として,対向ターゲット式プレーナマグネトロンスパッタ法を用いた.5x10-4Torrの低ガス圧でスパッタが可能であり,ガラス基板上に250℃でc軸が基板面に垂直に配向したAlN多結晶膜が作製できることを示した.50度の基板温度でも,幾分配向度は劣るが,やはりAlN膜が得られた.   [継承]
キーワード (推奨):
発行所 (推奨):
誌名 (必須): Vacuum ([Elsevier Science])
(resolved by 0042-207X)
ISSN: 0042-207X (pISSN: 0042-207X, eISSN: 1879-2715)
Title: Vacuum
Title(ISO): Vacuum
Publisher: Elsevier Ltd.
 (NLM Catalog  (Scopus  (CrossRef (Scopus information is found. [need login])
(resolved by 1879-2715)
ISSN: 0042-207X (pISSN: 0042-207X, eISSN: 1879-2715)
Title: Vacuum
Title(ISO): Vacuum
Publisher: Elsevier Ltd.
 (NLM Catalog  (Scopus  (CrossRef (Scopus information is found. [need login])

ISSN (任意):
[継承]
(必須): 41 [継承]
(必須): 4-6 [継承]
(必須): 1154 1156 [継承]
都市 (任意):
年月日 (必須): 西暦 1990年 0月 初日 (平成 2年 0月 初日) [継承]
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和文冊子 ● Kikuo Tominaga : Preparation of AlN Films by Planar Magnetron Sputtering System with Facing Two Targets, Vacuum, Vol.41, No.4-6, 1154-1156, 1990.
欧文冊子 ● Kikuo Tominaga : Preparation of AlN Films by Planar Magnetron Sputtering System with Facing Two Targets, Vacuum, Vol.41, No.4-6, 1154-1156, 1990.

関連情報

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