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登録内容 (EID=82986)

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種別 (必須): 学術論文 (審査論文) [継承]
言語 (必須): 英語 [継承]
招待 (推奨):
審査 (推奨): Peer Review [継承]
カテゴリ (推奨):
共著種別 (推奨):
学究種別 (推奨):
組織 (推奨): 1.徳島大学.工学部.電気電子工学科.物性デバイス講座 [継承]
2.徳島大学.工学部.化学応用工学科.化学プロセス工学講座 [継承]
著者 (必須): 1.富永 喜久雄
役割 (任意): 共著 [継承]
貢献度 (任意):
学籍番号 (推奨):
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2. (英) Fukumoto Hidenori (日) 福本 英範 (読) ふくもと ひでのり
役割 (任意):
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学籍番号 (推奨):
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3. (英) Kondo Kumiko (日) 近藤 久美子 (読) こんどう くみこ
役割 (任意):
貢献度 (任意):
学籍番号 (推奨):
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4.林 由佳子
役割 (任意):
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学籍番号 (推奨):
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5.村井 啓一郎 ([徳島大学.大学院社会産業理工学研究部.理工学域.応用化学系.化学プロセス工学分野]/[徳島大学.理工学部.理工学科.応用化学システムコース.化学プロセス工学講座])
役割 (任意):
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学籍番号 (推奨):
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6.森賀 俊広 ([徳島大学.大学院社会産業理工学研究部.理工学域.応用化学系.化学プロセス工学分野]/[徳島大学.理工学部.理工学科.応用化学システムコース.化学プロセス工学講座])
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学籍番号 (推奨):
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7.中林 一朗
役割 (任意):
貢献度 (任意):
学籍番号 (推奨):
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題名 (必須): (英) Al-impurity-doped Transparent Conductive Oxide Films of In2O3-ZnO System  (日)    [継承]
副題 (任意):
要約 (任意): (英)   (日) ZnO-In2O3系の透明導電膜へのAl2O3の添加効果について調べた.Al2O3を添加しないときには,アモルファス相の膜において,低抵抗率がえられる組成比δ=Zn/(Zn+In)の範囲は0.2∼0.4と狭いが,A2O3を3wt%添加すると,2∼4x10-4Ωcmの範囲の組成比は0.3∼0.6と広がる.また,Al2O3=2wt%の膜の光学的バンドギャップが添加しない場合のそれよりも小さくなるband shrinkageを示すが,3wt%添加ではバンドの広がりが観測された.ホモロガス(結晶)相においては,Al2O3の添加量とともに光学的バンドギャップは広がる.これはAl2O3が格子を歪ませている結果であると考えられる.Al2O3の添加はアモルファス膜の抵抗率には大きな変化は与えないが,ホモロガス(結晶)膜ではキャリア密度を減少させ,抵抗率を上昇させた.   [継承]
キーワード (推奨): 1. (英) amorphous transparent conductive oxide films (日) (読) [継承]
2. (英) ZnO (日) (読) [継承]
3. (英) In2O3 (日) (読) [継承]
4. (英) TCO film (日) (読) [継承]
5. (英) ZINC-OXIDE (日) (読) [継承]
6. (英) TARGETS (日) (読) [継承]
7. (英) ZNO (日) (読) [継承]
発行所 (推奨): Elsevier Science [継承]
誌名 (必須): Vacuum ([Elsevier Science])
(pISSN: 0042-207X, eISSN: 1879-2715)

ISSN (任意): 0042-207X
ISSN: 0042-207X (pISSN: 0042-207X, eISSN: 1879-2715)
Title: Vacuum
Title(ISO): Vacuum
Publisher: Elsevier Ltd.
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(必須): 74 [継承]
(必須): 3-4 [継承]
(必須): 683 687 [継承]
都市 (任意):
年月日 (必須): 西暦 2004年 4月 初日 (平成 16年 4月 初日) [継承]
URL (任意):
DOI (任意): 10.1016/j.vacuum.2004.01.042    (→Scopusで検索) [継承]
PMID (任意):
NAID (任意):
WOS (任意): 000221843100056 [継承]
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被引用数 (任意):
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標準的な表示

和文冊子 ● Kikuo Tominaga, Hidenori Fukumoto, Kumiko Kondo, Yukako Hayashi, Kei-ichiro Murai, Toshihiro Moriga and Ichiro Nakabayashi : Al-impurity-doped Transparent Conductive Oxide Films of In2O3-ZnO System, Vacuum, Vol.74, No.3-4, 683-687, 2004.
欧文冊子 ● Kikuo Tominaga, Hidenori Fukumoto, Kumiko Kondo, Yukako Hayashi, Kei-ichiro Murai, Toshihiro Moriga and Ichiro Nakabayashi : Al-impurity-doped Transparent Conductive Oxide Films of In2O3-ZnO System, Vacuum, Vol.74, No.3-4, 683-687, 2004.

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