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登録内容 (EID=80420)

EID=80420EID:80420, Map:0, LastModified:2005年3月20日(日) 14:41:28, Operator:[森賀 俊広], Avail:TRUE, Censor:0, Owner:[森賀 俊広], Read:継承, Write:継承, Delete:継承.
種別 (必須): 国際会議 [継承]
言語 (必須): 英語 [継承]
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組織 (推奨): 1.徳島大学.工学部.化学応用工学科.化学プロセス工学講座 [継承]
2.徳島大学.工学部.電気電子工学科.物性デバイス講座 [継承]
著者 (必須): 1.森賀 俊広 ([徳島大学.大学院社会産業理工学研究部.理工学域.応用化学系.化学プロセス工学分野]/[徳島大学.理工学部.理工学科.応用化学システムコース.化学プロセス工学講座])
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2.林 由佳子
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3. (英) Kondo Kumiko (日) 近藤 久美子 (読) こんどう くみこ
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4. (英) Matsuo Keiichiro (日) 松尾 圭一郎 (読) まつお けいいちろう
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5. (英) Fukumoto Hidetaka (日) 福本 英敬 (読) ふくもと ひでたか
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6.村井 啓一郎 ([徳島大学.大学院社会産業理工学研究部.理工学域.応用化学系.化学プロセス工学分野]/[徳島大学.理工学部.理工学科.応用化学システムコース.化学プロセス工学講座])
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7.富永 喜久雄
役割 (任意): 共著 [継承]
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8.中林 一朗
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題名 (必須): (英) Transparent Conducting Amorphous Zn-Sn-O Films Deposited by Simultaneous DC Sputtering  (日)    [継承]
副題 (任意):
要約 (任意): (英)   (日) 酸化亜鉛-酸化スズ系透明導電性アモルファス薄膜について,その組成と透明導電性の関係を明らかにした.アモルファス構造ととっていても,アモルファス中の亜鉛の含有量が増加するに従い,イルメナイト型ZnSnO3に近い構造から逆スピネル型Zn2SnO4に近い構造へと変化していくことを示した.イルメナイト型構造中では亜鉛は6配位であるが,逆スピネル型では4あるいは6配位をとるようになるので,配位数の減少による共有結合性の増加が生じ,その結果酸素欠損が生じにくくなるので,亜鉛含有量が増加するとキャリア濃度が減少し,その結果抵抗率の上昇をもたらすことを示した.この発表の内容は,学術論文``J. Vac Sci. Tech. A (2004)''にも記載されている.   [継承]
キーワード (推奨):
発行所 (推奨): (英) American Vacuum Society (日) アメリカ真空学会 (読) あめりかしんくうがっかい [継承]
誌名 (必須): (英) American Vacuum Society 50th International Symposium & Exhibition (日) (読)
ISSN (任意):
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都市 (必須): (英) Baltimore, USA (日) ボルチモア (読) [継承]
年月日 (必須): 西暦 2003年 11月 4日 (平成 15年 11月 4日) [継承]
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和文冊子 ● Toshihiro Moriga, Yukako Hayashi, Kumiko Kondo, Keiichiro Matsuo, Hidetaka Fukumoto, Kei-ichiro Murai, Kikuo Tominaga and Ichiro Nakabayashi : Transparent Conducting Amorphous Zn-Sn-O Films Deposited by Simultaneous DC Sputtering, American Vacuum Society 50th International Symposium & Exhibition, (巻), (号), (頁), Baltimore, USA, Nov. 2003.
欧文冊子 ● Toshihiro Moriga, Yukako Hayashi, Kumiko Kondo, Keiichiro Matsuo, Hidetaka Fukumoto, Kei-ichiro Murai, Kikuo Tominaga and Ichiro Nakabayashi : Transparent Conducting Amorphous Zn-Sn-O Films Deposited by Simultaneous DC Sputtering, American Vacuum Society 50th International Symposium & Exhibition, (巻), (号), (頁), Baltimore, USA, Nov. 2003.

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