| ○種別 (必須): | □ | 学術論文 (審査論文)
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| ○言語 (必須): |
| ○招待 (推奨): |
| ○審査 (推奨): |
| ○カテゴリ (推奨): |
| ○共著種別 (推奨): |
| ○学究種別 (推奨): |
| ○組織 (推奨): | 1. | 徳島大学.工学研究科.エコシステム工学専攻.資源循環工学講座 (〜2014年3月31日)
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| ○著者 (必須): | 1. | (英) Tomonari Shigeaki (日) (読)
| ○役割 (任意): |
| ○貢献度 (任意): |
| ○学籍番号 (推奨): |
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| 2. | (英) Yoshida Hitoshi (日) (読)
| ○役割 (任意): |
| ○貢献度 (任意): |
| ○学籍番号 (推奨): |
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| 3. | (英) Kamakura Masanao (日) (読)
| ○役割 (任意): |
| ○貢献度 (任意): |
| ○学籍番号 (推奨): |
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| 4. | (英) Yoshida Kazushi (日) (読)
| ○役割 (任意): |
| ○貢献度 (任意): |
| ○学籍番号 (推奨): |
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| 5. | (英) Kawahito Keiko (日) (読)
| ○役割 (任意): |
| ○貢献度 (任意): |
| ○学籍番号 (推奨): |
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| 6. | (英) Saitoh Masaaki (日) (読)
| ○役割 (任意): |
| ○貢献度 (任意): |
| ○学籍番号 (推奨): |
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| 7. | (英) Kawada Hiroshi (日) (読)
| ○役割 (任意): |
| ○貢献度 (任意): |
| ○学籍番号 (推奨): |
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| 8. | ヨードカシス サウリウス ([北海道大学])
| ○役割 (任意): |
| ○貢献度 (任意): |
| ○学籍番号 (推奨): |
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| 9. | 三澤 弘明 ([北海道大学])
| ○役割 (任意): |
| ○貢献度 (任意): |
| ○学籍番号 (推奨): |
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| ○題名 (必須): | □ | (英) Efficient Microvalve Driven by a Si-Ni Bimorph (日)
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| ○副題 (任意): |
| ○要約 (任意): | □ | (英) We report on a new type of high-throughput thermally driven microvalve fabricated by using micro-electromechanical system (MEMS) technology. A miniaturized Si-Ni bimorph actuator was incorporated into the valve structure. This allowed the realization of both larger force generation and a longer stroke (the actuation length) combined with shortened response time. Also, a low-voltage actuation (${<}3$ V) and low-energy consumption (${<}0.2$ W) were achieved. The actual size of the fabricated valve is $7.3 imes 5.8 imes 1.2$ mm3. The flow rate of 0 to 500 cm3/min at an air pressure of 47 kPa with a low leakage rate of 0.03 cm3/min and good linearity of air pressure control were achieved. The principles of design and experimental results on flow rate control are presented and discussed. (日)
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| ○キーワード (推奨): | 1. | (英) bimorph (日) (読)
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| 2. | (英) MEMS (日) (読)
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| 3. | (英) thermal expansion (日) (読)
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| ○発行所 (推奨): | □ | 物理系学術誌刊行協会
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| ○誌名 (必須): | □ | Japanese Journal of Applied Physics, Part 1 (Regular Papers & Short Notes) ([応用物理学会])
(pISSN: 0021-4922, eISSN: 1347-4065)
| ○ISSN (任意): | □ | 0021-4922
ISSN: 0021-4922
(pISSN: 0021-4922, eISSN: 1347-4065) Title: Japanese journal of applied physics (2008)Title(ISO): Jpn J Appl Phys (2008)Supplier: 社団法人応用物理学会Publisher: Japan Society of Applied Physics (NLM Catalog)
(Webcat Plus)
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(Scopus)
(CrossRef)
(Scopus information is found. [need login]) | [継承] |
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| ○巻 (必須): | □ | 42
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| ○号 (必須): | □ | 7A
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| ○頁 (必須): | □ | 4593 4597
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| ○都市 (任意): |
| ○年月日 (必須): | □ | 西暦 2003年 7月 15日 (平成 15年 7月 15日)
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| ○URL (任意): | □ | http://ci.nii.ac.jp/naid/150000041840/
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| ○DOI (任意): | □ | 10.1143/JJAP.42.4593 (→Scopusで検索)
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| ○PMID (任意): |
| ○CRID (任意): | □ | 1390282681232011520
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| ○NAID : | □ | 130004531082
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| ○WOS (任意): |
| ○Scopus (任意): | □ | 2-s2.0-0141494520
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| ○備考 (任意): |