| ○種別 (必須): | □ | 学術論文 (審査論文)
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| ○言語 (必須): |
| ○招待 (推奨): |
| ○審査 (推奨): |
| ○カテゴリ (推奨): |
| ○共著種別 (推奨): |
| ○学究種別 (推奨): |
| ○組織 (推奨): | 1. | 徳島大学.工学研究科.エコシステム工学専攻.資源循環工学講座 (〜2014年3月31日)
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| ○著者 (必須): | 1. | (英) Tomonari Shigeaki (日) (読)
| ○役割 (任意): |
| ○貢献度 (任意): |
| ○学籍番号 (推奨): |
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| 2. | (英) Yoshida Hitoshi (日) (読)
| ○役割 (任意): |
| ○貢献度 (任意): |
| ○学籍番号 (推奨): |
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| 3. | (英) Kamakura Masanao (日) (読)
| ○役割 (任意): |
| ○貢献度 (任意): |
| ○学籍番号 (推奨): |
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| 4. | (英) Yoshida Kazushi (日) (読)
| ○役割 (任意): |
| ○貢献度 (任意): |
| ○学籍番号 (推奨): |
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| 5. | (英) Kawahito Keiko (日) (読)
| ○役割 (任意): |
| ○貢献度 (任意): |
| ○学籍番号 (推奨): |
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| 6. | (英) Saitoh Masaaki (日) (読)
| ○役割 (任意): |
| ○貢献度 (任意): |
| ○学籍番号 (推奨): |
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| 7. | (英) Kawada Hiroshi (日) (読)
| ○役割 (任意): |
| ○貢献度 (任意): |
| ○学籍番号 (推奨): |
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| 8. | ヨードカシス サウリウス ([北海道大学])
| ○役割 (任意): |
| ○貢献度 (任意): |
| ○学籍番号 (推奨): |
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| 9. | 三澤 弘明 ([北海道大学])
| ○役割 (任意): |
| ○貢献度 (任意): |
| ○学籍番号 (推奨): |
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| ○題名 (必須): | □ | (英) Miniaturization of a Thermally Driven Ni|Si Bimorph (日)
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| ○副題 (任意): |
| ○要約 (任意): | □ | (英) We report on the development of a thermally isolated bimorph structure based on a Ni$|$Si pair. A 1-mm-long beam of the bimorph was thermally isolated by a polyimide comb from the rest of the Si structure. The Si and Ni layers of the bimorph were 20 μm thick. This geometry enabled us to generate the bending displacement (the stroke) of the free end of the bimorph up to 100 μm at about 100°C with a generated force of about 15 mN. Electrical power consumption for the 100°C working point was lower than 0.2 W and the response time was 0.5 s. This design entitles further miniaturization of micro-electromechanical systems (MEMSs) such as commercial microvalve structures and sensors. The principles of design and experimental results of temperature distribution for the bimorph are presented and discussed. (日)
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| ○キーワード (推奨): | 1. | (英) bimorph (日) (読)
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| 2. | (英) MEMS (日) (読)
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| 3. | (英) thermal expansion (日) (読)
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| ○発行所 (推奨): | □ | 物理系学術誌刊行協会
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| ○誌名 (必須): | □ | Japanese Journal of Applied Physics, Part 1 (Regular Papers & Short Notes) ([応用物理学会])
(pISSN: 0021-4922, eISSN: 1347-4065)
| ○ISSN (任意): | □ | 0021-4922
ISSN: 0021-4922
(pISSN: 0021-4922, eISSN: 1347-4065) Title: Japanese journal of applied physics (2008)Title(ISO): Jpn J Appl Phys (2008)Supplier: 社団法人応用物理学会Publisher: Japan Society of Applied Physics (NLM Catalog)
(Webcat Plus)
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(Scopus)
(CrossRef)
(Scopus information is found. [need login]) | [継承] |
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| ○巻 (必須): | □ | 42
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| ○号 (必須): | □ | 7A
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| ○頁 (必須): | □ | 4464 4468
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| ○都市 (任意): |
| ○年月日 (必須): | □ | 西暦 2003年 7月 15日 (平成 15年 7月 15日)
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| ○URL (任意): | □ | http://ci.nii.ac.jp/naid/10011259165/
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| ○DOI (任意): | □ | 10.1143/JJAP.42.4464 (→Scopusで検索)
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| ○PMID (任意): |
| ○CRID (任意): | □ | 1390001206255281152
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| ○NAID : | □ | 10011259165
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| ○WOS (任意): |
| ○Scopus (任意): | □ | 2-s2.0-0141496343
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