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登録内容 (EID=335940)

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種別 (必須): 国内講演発表 [継承]
言語 (必須): 日本語 [継承]
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共著種別 (推奨):
学究種別 (推奨):
組織 (推奨):
著者 (必須): 1. (英) (日) 谷口 嘉昭 (読)
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学籍番号 (推奨):
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2. (英) Miki Tsubasa (日) 三木 翼 (読) みき つばさ
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学籍番号 (推奨): **** [ユーザ]
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3.大野 恭秀 ([徳島大学.ポストLEDフォトニクス研究所]/[徳島大学.理工学部.理工学科.電気電子システムコース.物性デバイス講座])
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学籍番号 (推奨):
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4.永瀬 雅夫 ([徳島大学.ポストLEDフォトニクス研究所]/[徳島大学.理工学部.理工学科.電気電子システムコース.物性デバイス講座])
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学籍番号 (推奨):
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5.荒川 幸弘 ([徳島大学.大学院社会産業理工学研究部.理工学域.応用化学系.物質合成化学分野]/[徳島大学.理工学部.理工学科.応用化学システムコース.物質合成化学講座])
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学籍番号 (推奨):
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6.今田 泰嗣 ([徳島大学.大学院社会産業理工学研究部.理工学域.応用化学系.物質合成化学分野]/[徳島大学.理工学部.理工学科.応用化学システムコース.物質合成化学講座])
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学籍番号 (推奨):
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7.南川 慶二 ([徳島大学.教養教育院])
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学籍番号 (推奨):
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8.安澤 幹人 ([徳島大学.大学院社会産業理工学研究部.理工学域.応用化学系.物質機能化学分野]/[徳島大学.理工学部.理工学科.応用化学システムコース.物質機能化学講座])
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学籍番号 (推奨):
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題名 (必須): (英)   (日) 分子修飾技術を用いたグラフェン表面のタンパク質吸着抑制   [継承]
副題 (任意):
要約 (任意):
キーワード (推奨):
発行所 (推奨): 日本材料学会 [継承]
誌名 (必須): (英) (日) 平成 29 年度第 4 回半導体エレクトロニクス部門委員会・講演会 (読)
ISSN (任意):
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(必須): [継承]
(必須):
(必須): P10 (4pp) [継承]
都市 (必須): (英) (日) 徳島大学常三島キャンパス・工業会館,徳島市 (読) [継承]
年月日 (必須): 西暦 2018年 1月 27日 (平成 30年 1月 27日) [継承]
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標準的な表示

和文冊子 ● 谷口 嘉昭, 三木 翼, 大野 恭秀, 永瀬 雅夫, 荒川 幸弘, 今田 泰嗣, 南川 慶二, 安澤 幹人 : 分子修飾技術を用いたグラフェン表面のタンパク質吸着抑制, 平成 29 年度第 4 回半導体エレクトロニクス部門委員会・講演会, (号), P10-(4pp), 2018年1月.
欧文冊子 ● 谷口 嘉昭, Tsubasa Miki, Yasuhide Ohno, Masao Nagase, Yukihiro Arakawa, Yasushi Imada, Keiji Minagawa and Mikito Yasuzawa : 分子修飾技術を用いたグラフェン表面のタンパク質吸着抑制, 平成 29 年度第 4 回半導体エレクトロニクス部門委員会・講演会, (号), P10-(4pp), Jan. 2018.

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