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登録内容 (EID=335938)

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種別 (必須): 国内講演発表 [継承]
言語 (必須): 日本語 [継承]
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著者 (必須): 1. (英) (日) 谷口 嘉昭 (読)
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2. (英) Miki Tsubasa (日) 三木 翼 (読) みき つばさ
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学籍番号 (推奨): **** [ユーザ]
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3.大野 恭秀 ([徳島大学.ポストLEDフォトニクス研究所]/[徳島大学.理工学部.理工学科.電気電子システムコース.物性デバイス講座])
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学籍番号 (推奨):
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4.永瀬 雅夫 ([徳島大学.ポストLEDフォトニクス研究所]/[徳島大学.理工学部.理工学科.電気電子システムコース.物性デバイス講座])
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学籍番号 (推奨):
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5.荒川 幸弘 ([徳島大学.大学院社会産業理工学研究部.理工学域.応用化学系.物質合成化学分野]/[徳島大学.理工学部.理工学科.応用化学システムコース.物質合成化学講座])
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学籍番号 (推奨):
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6.今田 泰嗣 ([徳島大学.大学院社会産業理工学研究部.理工学域.応用化学系.物質合成化学分野]/[徳島大学.理工学部.理工学科.応用化学システムコース.物質合成化学講座])
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学籍番号 (推奨):
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7.南川 慶二 ([徳島大学.教養教育院])
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学籍番号 (推奨):
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8.安澤 幹人 ([徳島大学.大学院社会産業理工学研究部.理工学域.応用化学系.物質機能化学分野]/[徳島大学.理工学部.理工学科.応用化学システムコース.物質機能化学講座])
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学籍番号 (推奨):
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題名 (必須): (英)   (日) ホスホリルコリン修飾によるグラフェン表面のタンパク質吸着抑制   [継承]
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発行所 (推奨): 電子情報通信学会 [継承]
誌名 (必須): (英) (日) 電子デバイス研究会(ED) (読)
ISSN (任意):
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(必須): 13 13 [継承]
都市 (必須): (英) (日) 機械振興会館,港区 (読) [継承]
年月日 (必須): 西暦 2017年 8月 9日 (平成 29年 8月 9日) [継承]
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和文冊子 ● 谷口 嘉昭, 三木 翼, 大野 恭秀, 永瀬 雅夫, 荒川 幸弘, 今田 泰嗣, 南川 慶二, 安澤 幹人 : ホスホリルコリン修飾によるグラフェン表面のタンパク質吸着抑制, 電子デバイス研究会(ED), (号), 13, 2017年8月.
欧文冊子 ● 谷口 嘉昭, Tsubasa Miki, Yasuhide Ohno, Masao Nagase, Yukihiro Arakawa, Yasushi Imada, Keiji Minagawa and Mikito Yasuzawa : ホスホリルコリン修飾によるグラフェン表面のタンパク質吸着抑制, 電子デバイス研究会(ED), (号), 13, Aug. 2017.

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