『徳島大学 教育・研究者情報データベース (EDB)』---[学外] /
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登録内容 (EID=323443)

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種別 (必須): 国内講演発表 [継承]
言語 (必須): 日本語 [継承]
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著者 (必須): 1. (英) (日) 谷口 嘉昭 (読)
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学籍番号 (推奨):
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2. (英) (日) 三木 翼 (読)
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学籍番号 (推奨):
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3. (英) (日) 光野 琢仁 (読)
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学籍番号 (推奨):
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4.大野 恭秀 ([徳島大学.ポストLEDフォトニクス研究所]/[徳島大学.理工学部.理工学科.電気電子システムコース.物性デバイス講座])
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学籍番号 (推奨):
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5.永瀬 雅夫 ([徳島大学.ポストLEDフォトニクス研究所]/[徳島大学.理工学部.理工学科.電気電子システムコース.物性デバイス講座])
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学籍番号 (推奨):
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6.南川 慶二 ([徳島大学.教養教育院])
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学籍番号 (推奨):
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7.安澤 幹人 ([徳島大学.大学院社会産業理工学研究部.理工学域.応用化学系.物質機能化学分野]/[徳島大学.理工学部.理工学科.応用化学システムコース.物質機能化学講座])
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学籍番号 (推奨):
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題名 (必須): (英)   (日) 分子修飾機能化による SiC 上グラフェンの非特異吸着の抑制   [継承]
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発行所 (推奨): 応用物理学会 [継承]
誌名 (必須): (英) (日) 第64回応用物理学会春季学術講演会(応物2017春) (読)
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(必須): [継承]
(必須): 15a-B6-7 [継承]
(必須): 15-085 (1pp) [継承]
都市 (必須): (英) (日) パシフィコ横浜, 横浜市 (読) [継承]
年月日 (必須): 西暦 2017年 3月 15日 (平成 29年 3月 15日) [継承]
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和文冊子 ● 谷口 嘉昭, 三木 翼, 光野 琢仁, 大野 恭秀, 永瀬 雅夫, 南川 慶二, 安澤 幹人 : 分子修飾機能化による SiC 上グラフェンの非特異吸着の抑制, 第64回応用物理学会春季学術講演会(応物2017春), No.15a-B6-7, 15-085-(1pp), 2017年3月.
欧文冊子 ● 谷口 嘉昭, 三木 翼, 光野 琢仁, Yasuhide Ohno, Masao Nagase, Keiji Minagawa and Mikito Yasuzawa : 分子修飾機能化による SiC 上グラフェンの非特異吸着の抑制, 第64回応用物理学会春季学術講演会(応物2017春), No.15a-B6-7, 15-085-(1pp), March 2017.

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