『徳島大学 教育・研究者情報データベース (EDB)』---[学外] /
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登録内容 (EID=321583)

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種別 (必須): 国内講演発表 [継承]
言語 (必須): 日本語 [継承]
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著者 (必須): 1. (英) (日) 谷口 嘉昭 (読)
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2. (英) (日) 三木 翼 (読)
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学籍番号 (推奨):
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3. (英) (日) 光野 琢仁 (読)
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学籍番号 (推奨):
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4.大野 恭秀 ([徳島大学.ポストLEDフォトニクス研究所]/[徳島大学.理工学部.理工学科.電気電子システムコース.物性デバイス講座])
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学籍番号 (推奨):
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5.永瀬 雅夫 ([徳島大学.ポストLEDフォトニクス研究所]/[徳島大学.理工学部.理工学科.電気電子システムコース.物性デバイス講座])
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学籍番号 (推奨):
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6.南川 慶二 ([徳島大学.教養教育院])
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学籍番号 (推奨):
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7.安澤 幹人 ([徳島大学.大学院社会産業理工学研究部.理工学域.応用化学系.物質機能化学分野]/[徳島大学.理工学部.理工学科.応用化学システムコース.物質機能化学講座])
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題名 (必須): (英)   (日) 新規合成分子を用いた表面修飾による単結晶グラフェンの親水化   [継承]
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発行所 (推奨): 応用物理学会 [継承]
誌名 (必須): (英) (日) 第8回集積化MEMSシンボジウム (読)
ISSN (任意):
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(必須): [継承]
(必須): 25pm4-PM-017 [継承]
(必須):
都市 (必須): (英) (日) 平戸市文化センター,平戸市 (読) [継承]
年月日 (必須): 西暦 2016年 10月 25日 (平成 28年 10月 25日) [継承]
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和文冊子 ● 谷口 嘉昭, 三木 翼, 光野 琢仁, 大野 恭秀, 永瀬 雅夫, 南川 慶二, 安澤 幹人 : 新規合成分子を用いた表面修飾による単結晶グラフェンの親水化, 第8回集積化MEMSシンボジウム, No.25pm4-PM-017, (頁), 2016年10月.
欧文冊子 ● 谷口 嘉昭, 三木 翼, 光野 琢仁, Yasuhide Ohno, Masao Nagase, Keiji Minagawa and Mikito Yasuzawa : 新規合成分子を用いた表面修飾による単結晶グラフェンの親水化, 第8回集積化MEMSシンボジウム, No.25pm4-PM-017, (頁), Oct. 2016.

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