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登録内容 (EID=314570)

EID=314570EID:314570, Map:0, LastModified:2018年5月11日(金) 19:50:37, Operator:[岡本 敏弘], Avail:TRUE, Censor:0, Owner:[岡本 敏弘], Read:継承, Write:継承, Delete:継承.
種別 (必須): 学術論文 (審査論文) [継承]
言語 (必須): 英語 [継承]
招待 (推奨):
審査 (推奨): Peer Review [継承]
カテゴリ (推奨):
共著種別 (推奨):
学究種別 (推奨):
組織 (推奨):
著者 (必須): 1. (英) Okuda Koji (日) 奥田 浩二 (読) おくだ こうじ
役割 (任意):
貢献度 (任意):
学籍番号 (推奨): **** [ユーザ]
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2. (英) Kamada Shun (日) 鎌田 隼 (読) かまだ しゅん
役割 (任意):
貢献度 (任意):
学籍番号 (推奨): **** [ユーザ]
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3.岡本 敏弘 ([徳島大学.ポストLEDフォトニクス研究所]/[徳島大学.理工学部.理工学科.情報光システムコース.光機能材料講座])
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学籍番号 (推奨):
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4.原口 雅宣 ([徳島大学.大学院社会産業理工学研究部.理工学域.光応用系.光機能材料分野]/[徳島大学.理工学部.理工学科.情報光システムコース.光機能材料講座]/[徳島大学.ポストLEDフォトニクス研究所])
役割 (任意):
貢献度 (任意):
学籍番号 (推奨):
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題名 (必須): (英) Gap plasmon excitation in plasmonic waveguide using Si waveguide  (日)    [継承]
副題 (任意):
要約 (任意): (英) Plasmonic waveguides have attracted considerable attention for application in highly integrated optical circuits since they can confine light to areas smaller than the diffraction limit. In this context, in order to realize a highly integrated optical circuit, we fabricate and evaluate the optical characteristics of a poly(methyl methacrylate) junction positioned between Si and plasmonic waveguides. For the plasmonic waveguide, we employ a gap plasmonic waveguide in which the energy of the plasmonic wave can be confined in order to reduce the scattering loss at the junction. By experimental measurement, we determine the coupling efficiency between the Si and gap plasmonic waveguides and the propagation length at the gap plasmonic waveguide to be 52.4% and 11.1 m, respectively. These values agree with those obtained by the three-dimensional finite-difference time-domain simulation. We believe that our findings can significantly contribute to the development of highly integrated optical circuits.  (日)    [継承]
キーワード (推奨):
発行所 (推奨): 応用物理学会 [継承]
誌名 (必須): Japanese Journal of Applied Physics, Part 1 (Regular Papers & Short Notes) ([応用物理学会])
(pISSN: 0021-4922, eISSN: 1347-4065)

ISSN (任意): 1347-4065
ISSN: 0021-4922 (pISSN: 0021-4922, eISSN: 1347-4065)
Title: Japanese journal of applied physics (2008)
Title(ISO): Jpn J Appl Phys (2008)
Supplier: 社団法人応用物理学会
Publisher: Japan Society of Applied Physics
 (NLM Catalog  (Webcat Plus  (Webcat Plus  (Webcat Plus  (Scopus  (Scopus  (Scopus  (CrossRef (Scopus information is found. [need login])
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(必須): 55 [継承]
(必須): 8S3 [継承]
(必須): 08RG02-1 08RG02-4 [継承]
都市 (任意):
年月日 (必須): 西暦 2016年 7月 11日 (平成 28年 7月 11日) [継承]
URL (任意): http://doi.org/10.7567/JJAP.55.08RG02 [継承]
DOI (任意): 10.7567/JJAP.55.08RG02    (→Scopusで検索) [継承]
PMID (任意):
NAID (任意):
WOS (任意):
Scopus (任意):
機関リポジトリ : 111001 [継承]
評価値 (任意):
被引用数 (任意):
指導教員 (推奨):
備考 (任意):

標準的な表示

和文冊子 ● Koji Okuda, Shun Kamada, Toshihiro Okamoto and Masanobu Haraguchi : Gap plasmon excitation in plasmonic waveguide using Si waveguide, Japanese Journal of Applied Physics, Part 1 (Regular Papers & Short Notes), Vol.55, No.8S3, 08RG02-1-08RG02-4, 2016.
欧文冊子 ● Koji Okuda, Shun Kamada, Toshihiro Okamoto and Masanobu Haraguchi : Gap plasmon excitation in plasmonic waveguide using Si waveguide, Japanese Journal of Applied Physics, Part 1 (Regular Papers & Short Notes), Vol.55, No.8S3, 08RG02-1-08RG02-4, 2016.

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