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登録内容 (EID=310145)

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種別 (必須): 国内講演発表 [継承]
言語 (必須): 日本語 [継承]
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組織 (推奨): 1.徳島大学.大学院社会産業理工学研究部.フロンティア研究センター.光ナノテクノロジー研究部門.ナノマテリアルテクノロジー分野(日亜寄附講座) (〜2018年3月31日) [継承]
著者 (必須): 1.熊谷 直人
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2. (英) (日) 村雲 圭佑 (読)
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学籍番号 (推奨):
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3.盧 翔孟
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学籍番号 (推奨):
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4.北田 貴弘 (->個人[塚越 貴弘])
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学籍番号 (推奨):
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5.井須 俊郎
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学籍番号 (推奨):
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題名 (必須): (英)   (日) Er ドープInAs 量子ドット層のキャリア緩和時間から評価した光電流周波数特性   [継承]
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キーワード (推奨):
発行所 (推奨): 応用物理学会 [継承]
誌名 (必須): (英) (日) 2016年 第63回応用物理学会春季学術講演会 (読)
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(必須): 20a-H135-8 [継承]
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都市 (必須): 東京 (Tokyo/[日本国]) [継承]
年月日 (必須): 西暦 2016年 3月 20日 (平成 28年 3月 20日) [継承]
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和文冊子 ● 熊谷 直人, 村雲 圭佑, 盧 翔孟, 北田 貴弘, 井須 俊郎 : Er ドープInAs 量子ドット層のキャリア緩和時間から評価した光電流周波数特性, 2016年 第63回応用物理学会春季学術講演会, No.20a-H135-8, 2016年3月.
欧文冊子 ● Naoto Kumagai, 村雲 圭佑, Xiangmeng Lu, Takahiro Kitada and Toshiro Isu : Er ドープInAs 量子ドット層のキャリア緩和時間から評価した光電流周波数特性, 2016年 第63回応用物理学会春季学術講演会, No.20a-H135-8, March 2016.

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