『徳島大学 教育・研究者情報データベース (EDB)』---[学外] /
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登録内容 (EID=300560)

EID=300560EID:300560, Map:0, LastModified:2020年9月28日(月) 10:03:27, Operator:[井内 健介], Avail:TRUE, Censor:0, Owner:[井内 健介], Read:継承, Write:継承, Delete:継承.
組織 (推奨):
種別 (必須): 特許 [継承]
出願国 (必須): 1.国内 [継承]
発明者 (必須): 1. (英) (日) 土橋 和也 (読)
役割 (任意):
貢献度 (任意):
学籍番号 (推奨):
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2.井内 健介 ([徳島大学.四国産学官連携イノベーション共同推進機構]/[徳島大学.研究支援・産官学連携センター])
役割 (任意):
貢献度 (任意):
学籍番号 (推奨):
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出願人 (推奨): 1. (英) (日) 東京エレクトロン株式会社 (読) [継承]
名称 (必須): (英)   (日) 基板洗浄装置   [継承]
要約 (任意):
キーワード (推奨):
出願 (必須): 2013-170784
出願年月日 (必須): 西暦 2013年 8月 20日 (平成 25年 8月 20日) [継承]
[継承]
開示 (必須): 2015-41646
開示年月日 (必須): 西暦 2015年 3月 2日 (平成 27年 3月 2日) [継承]
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番号 (必須): 6311236 [継承]
年月日 (必須): 西暦 2018年 3月 30日 (平成 30年 3月 30日) [継承]
備考 (任意):

標準的な表示

和文冊子 ● 土橋 和也, 井内 健介 : 基板洗浄装置, 特願2013-170784 (2013年8月), 特開2015-41646 (2015年3月), 特許第6311236号 (2018年3月).
欧文冊子 ● 土橋 和也 and Kensuke Inai : 基板洗浄装置, 2013-170784 (Aug. 2013), 2015-41646 (March 2015), 6311236 (March 2018).

関連情報

Number of session users = 1, LA = 0.72, Max(EID) = 374923, Max(EOID) = 1004754.