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登録内容 (EID=283609)

EID=283609EID:283609, Map:0, LastModified:2014年8月20日(水) 20:53:22, Operator:[三好 德和], Avail:TRUE, Censor:0, Owner:[三好 德和], Read:継承, Write:継承, Delete:継承.
種別 (必須): 国内講演発表 [継承]
言語 (必須): 日本語 [継承]
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著者 (必須): 1.三好 德和 ([徳島大学.大学院社会産業理工学研究部.理工学域.自然科学系.化学分野]/[徳島大学.理工学部.理工学科.応用理数コース.化学講座])
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2. (英) (日) 宮崎 泰彰 (読)
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3. (英) (日) 山口 祐佳 (読)
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4. (英) (日) 北方 咲 (読)
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5. (英) (日) 久保 誠輝 (読)
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6.菊池 淳
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7.和田 眞
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題名 (必須): (英)   (日) ストロンチウムを用いる嵩高いアルコールと嵩高いシリルクロリドからの簡便なエーテル合成手法の開発   [継承]
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発行所 (推奨): (英) (日) 近畿化学協会 (読) [継承]
誌名 (必須): (英) (日) 第60回有機金属討論会 (読)
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(必須): P1B-01 P1B-01 [継承]
都市 (必須): 東京 (Tokyo/[日本国]) [継承]
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和文冊子 ● 三好 德和, 宮崎 泰彰, 山口 祐佳, 北方 咲, 久保 誠輝, 菊池 淳, 和田 眞 : ストロンチウムを用いる嵩高いアルコールと嵩高いシリルクロリドからの簡便なエーテル合成手法の開発, 第60回有機金属討論会, P1B-01, (年月日).
欧文冊子 ● Norikazu Miyoshi, 宮崎 泰彰, 山口 祐佳, 北方 咲, 久保 誠輝, Makoto Kikuchi and Makoto Wada : ストロンチウムを用いる嵩高いアルコールと嵩高いシリルクロリドからの簡便なエーテル合成手法の開発, 第60回有機金属討論会, P1B-01, (年月日).

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