『徳島大学 教育・研究者情報データベース (EDB)』---[学外] /
ID: Pass:

登録内容 (EID=280153)

EID=280153EID:280153, Map:0, LastModified:2016年4月22日(金) 18:28:35, Operator:[井内 健介], Avail:TRUE, Censor:0, Owner:[井内 健介], Read:継承, Write:継承, Delete:継承.
組織 (推奨):
種別 (必須): 特許 [継承]
出願国 (必須): 1.国内 [継承]
発明者 (必須): 1. (英) (日) 松尾 二郎 (読)
役割 (任意):
貢献度 (任意):
学籍番号 (推奨):
[継承]
2. (英) (日) 瀬木 利夫 (読)
役割 (任意):
貢献度 (任意):
学籍番号 (推奨):
[継承]
3. (英) (日) 青木 学聡 (読)
役割 (任意):
貢献度 (任意):
学籍番号 (推奨):
[継承]
4. (英) (日) 土橋 和也 (読)
役割 (任意):
貢献度 (任意):
学籍番号 (推奨):
[継承]
5.井内 健介 ([徳島大学.四国産学官連携イノベーション共同推進機構]/[徳島大学.研究支援・産官学連携センター])
役割 (任意):
貢献度 (任意):
学籍番号 (推奨):
[継承]
6. (英) (日) 斉藤 美佐子 (読)
役割 (任意):
貢献度 (任意):
学籍番号 (推奨):
[継承]
出願人 (推奨): 1. (英) (日) 国立大学法人京都大学 (読) [継承]
2. (英) (日) 東京エレクトロン株式会社 (読) [継承]
名称 (必須): (英)   (日) 板洗浄方法,基板洗浄装置及び真空処理装置   [継承]
要約 (任意):
キーワード (推奨):
出願 (必須): 2012-040647
出願年月日 (必須): 西暦 2012年 2月 27日 (平成 24年 2月 27日) [継承]
[継承]
開示 (必須): 2013-175681
開示年月日 (必須): 西暦 2013年 9月 5日 (平成 25年 9月 5日) [継承]
[継承]
番号 (必須):
年月日 (必須):
備考 (任意):

標準的な表示

和文冊子 ● 松尾 二郎, 瀬木 利夫, 青木 学聡, 土橋 和也, 井内 健介, 斉藤 美佐子 : 板洗浄方法,基板洗浄装置及び真空処理装置, 特願2012-040647 (2012年2月), 特開2013-175681 (2013年9月), (番号) ((年月日)).
欧文冊子 ● 松尾 二郎, 瀬木 利夫, 青木 学聡, 土橋 和也, Kensuke Inai and 斉藤 美佐子 : 板洗浄方法,基板洗浄装置及び真空処理装置, 2012-040647 (Feb. 2012), 2013-175681 (Sep. 2013), (番号) ((年月日)).

関連情報

Number of session users = 0, LA = 0.54, Max(EID) = 374829, Max(EOID) = 1004570.