『徳島大学 教育・研究者情報データベース (EDB)』---[学外] /
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登録内容 (EID=280149)

EID=280149EID:280149, Map:0, LastModified:2016年4月22日(金) 18:27:51, Operator:[井内 健介], Avail:TRUE, Censor:0, Owner:[井内 健介], Read:継承, Write:継承, Delete:継承.
組織 (推奨):
種別 (必須): 特許 [継承]
出願国 (必須): 1.国内 [継承]
発明者 (必須): 1. (英) (日) 土橋 和也 (読)
役割 (任意):
貢献度 (任意):
学籍番号 (推奨):
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2.井内 健介 ([徳島大学.四国産学官連携イノベーション共同推進機構]/[徳島大学.研究支援・産官学連携センター])
役割 (任意):
貢献度 (任意):
学籍番号 (推奨):
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3. (英) (日) 清水 昭貴 (読)
役割 (任意):
貢献度 (任意):
学籍番号 (推奨):
[継承]
4. (英) (日) 安田 健太 (読)
役割 (任意):
貢献度 (任意):
学籍番号 (推奨):
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5. (英) (日) 吉野 裕 (読)
役割 (任意):
貢献度 (任意):
学籍番号 (推奨):
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6. (英) (日) 相田 敏広 (読)
役割 (任意):
貢献度 (任意):
学籍番号 (推奨):
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7. (英) (日) 妹尾 武彦 (読)
役割 (任意):
貢献度 (任意):
学籍番号 (推奨):
[継承]
出願人 (推奨): 1. (英) (日) 東京エレクトロン株式会社 (読) [継承]
2. (英) (日) 岩谷産業株式会社 (読) [継承]
名称 (必須): (英)   (日) 基板洗浄装置及び真空処理システム   [継承]
要約 (任意):
キーワード (推奨):
出願 (必須): 2011-080098
出願年月日 (必須): 西暦 2011年 3月 31日 (平成 23年 3月 31日) [継承]
[継承]
開示 (必須): 2012-216636
開示年月日 (必須): 西暦 2012年 11月 8日 (平成 24年 11月 8日) [継承]
[継承]
番号 (必須): 5815967 [継承]
年月日 (必須): 西暦 2015年 10月 2日 (平成 27年 10月 2日) [継承]
備考 (任意):

標準的な表示

和文冊子 ● 土橋 和也, 井内 健介, 清水 昭貴, 安田 健太, 吉野 裕, 相田 敏広, 妹尾 武彦 : 基板洗浄装置及び真空処理システム, 特願2011-080098 (2011年3月), 特開2012-216636 (2012年11月), 特許第5815967号 (2015年10月).
欧文冊子 ● 土橋 和也, Kensuke Inai, 清水 昭貴, 安田 健太, 吉野 裕, 相田 敏広 and 妹尾 武彦 : 基板洗浄装置及び真空処理システム, 2011-080098 (March 2011), 2012-216636 (Nov. 2012), 5815967 (Oct. 2015).

関連情報

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