『徳島大学 教育・研究者情報データベース (EDB)』---[学外] /
ID: Pass:

登録内容 (EID=26284)

EID=26284EID:26284, Map:0, LastModified:2017年11月10日(金) 14:21:30, Operator:[三好 小文], Avail:TRUE, Censor:承認済, Owner:[[学科長]/[徳島大学.工学部.光応用工学科]], Read:継承, Write:継承, Delete:継承.
○種別 (必須): □国際会議 [継承]
○言語 (必須):
○招待 (推奨):
○審査 (推奨):
○カテゴリ (推奨):
○共著種別 (推奨): □国内共著 (徳島大学内研究者と国内(学外)研究者との共同研究 (国外研究者を含まない)) [継承]
○学究種別 (推奨):
○組織 (推奨): 1.徳島大学.工学研究科.エコシステム工学専攻.資源循環工学講座 (〜2014年3月31日) [継承]
2.徳島大学.工学部.機械工学科.機械科学講座 [継承]
○著者 (必須): 1. (英) Watanabe M. (日) (読)
○役割 (任意):
○貢献度 (任意):
○学籍番号 (推奨):
[継承]
2.ヨードカシス サウリウス ([北海道大学])
○役割 (任意):
○貢献度 (任意):
○学籍番号 (推奨):
[継承]
3. (英) Nishii J. (日) (読)
○役割 (任意):
○貢献度 (任意):
○学籍番号 (推奨):
[継承]
4.松尾 繁樹
○役割 (任意):
○貢献度 (任意):
○学籍番号 (推奨):
[継承]
5.三澤 弘明 ([北海道大学])
○役割 (任意):
○貢献度 (任意):
○学籍番号 (推奨):
[継承]
○題名 (必須): □(英) Microfabrication by a High Fluence Femtosecond Exposure: Mechanism and Applications  (日)    [継承]
○副題 (任意):
○要約 (任意):
○キーワード (推奨):
○発行所 (推奨):
○誌名 (必須): □Proceedings of SPIE ([SPIE The International Society for Optical Engineering])
(pISSN: 0277-786X, eISSN: 1996-756X)

○ISSN (任意): □0277-786X
ISSN: 0277-786X (pISSN: 0277-786X, eISSN: 1996-756X)
Title: Proceedings of SPIE--the International Society for Optical Engineering
Title(ISO): Proc SPIE Int Soc Opt Eng
 (NLM Catalog)   (Scopus)  (Scopus information is found. [need login])
[継承]
[継承]
○巻 (必須): □4637 [継承]
○号 (必須): □ [継承]
○頁 (必須): □159 168 [継承]
○都市 (必須): □サンノゼ (San Jose/[アメリカ合衆国]) [継承]
○年月日 (必須): □西暦 2002年 1月 22日 (平成 14年 1月 22日) [継承]
○URL (任意):
○DOI (任意): □10.1117/12.470618    (→Scopusで検索) [継承]
○PMID (任意):
○CRID (任意):
○Scopus (任意): □2-s2.0-0036406734 [継承]
○researchmap (任意):
○評価値 (任意):
○被引用数 (任意):
○指導教員 (推奨):
○備考 (任意):

標準的な表示

和文冊子 ● M. Watanabe, Saulius Juodkazis, J. Nishii, Shigeki Matsuo and Hiroaki Misawa : Microfabrication by a High Fluence Femtosecond Exposure: Mechanism and Applications, Proceedings of SPIE, 4637, 159-168, San Jose, Jan. 2002.
欧文冊子 ● M. Watanabe, Saulius Juodkazis, J. Nishii, Shigeki Matsuo and Hiroaki Misawa : Microfabrication by a High Fluence Femtosecond Exposure: Mechanism and Applications, Proceedings of SPIE, 4637, 159-168, San Jose, Jan. 2002.

関連情報

Number of session users = 1, LA = 1.11, Max(EID) = 444260, Max(EOID) = 1178153.