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登録内容 (EID=259067)

EID=259067EID:259067, Map:0, LastModified:2018年10月17日(水) 15:05:55, Operator:[三木 ちひろ], Avail:TRUE, Censor:0, Owner:[[学科長]/[徳島大学.工学部.機械工学科]], Read:継承, Write:継承, Delete:継承.
種別 (必須): 学術論文 (審査論文) [継承]
言語 (必須): 英語 [継承]
招待 (推奨):
審査 (推奨): Peer Review [継承]
カテゴリ (推奨): 研究 [継承]
共著種別 (推奨):
学究種別 (推奨): 博士前期課程学生による研究報告 [継承]
組織 (推奨): 1.大学院ソシオテクノサイエンス研究部 (2006年4月1日〜2016年3月31日) [継承]
著者 (必須): 1. (英) Dong-Hun Kim (日) (読)
役割 (任意):
貢献度 (任意):
学籍番号 (推奨):
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2.村上 理一
役割 (任意):
貢献度 (任意):
学籍番号 (推奨):
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3. (英) Yun-Hae Kim (日) (読)
役割 (任意):
貢献度 (任意):
学籍番号 (推奨):
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4. (英) Kyung-Man Moon (日) (読)
役割 (任意):
貢献度 (任意):
学籍番号 (推奨):
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5. (英) Seung-Jun An (日) (読)
役割 (任意):
貢献度 (任意):
学籍番号 (推奨):
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6. (英) Tae-Hyun Kim (日) (読)
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貢献度 (任意):
学籍番号 (推奨):
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7.王 胖胖
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貢献度 (任意):
学籍番号 (推奨):
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題名 (必須): (英) The Characteristics of Multilayer Thin Films Deposited with Metal Thin Film(Ag, Al, Cu)  (日)    [継承]
副題 (任意):
要約 (任意):
キーワード (推奨): 1. (英) multilayer thin films (日) (読) [継承]
2. (英) imbedded metal thin films (日) (読) [継承]
3. (英) electric properties (日) (読) [継承]
4. (英) transmittance of light (日) (読) [継承]
5. (英) continuous formation of thin films (日) (読) [継承]
発行所 (推奨): World Scientific [継承]
誌名 (必須): Advanced Materials Research (Scitec Publications)
(pISSN: 1022-6680, eISSN: 1662-8985)

ISSN (任意): 1662-8985
ISSN: 1022-6680 (pISSN: 1022-6680, eISSN: 1662-8985)
Title: Advanced materials research
Title(ISO): Adv Mat Res
Publisher: Trans Tech Publications
 (NLM Catalog  (Scopus  (CrossRef (Scopus information is found. [need login])
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(必須): 97-101 [継承]
(必須): [継承]
(必須): 1768 1771 [継承]
都市 (任意):
年月日 (必須): 西暦 2010年 0月 初日 (平成 22年 0月 初日) [継承]
URL (任意):
DOI (任意): 10.4028/www.scientific.net/AMR.97-101.1768    (→Scopusで検索) [継承]
PMID (任意):
NAID (任意):
WOS (任意):
Scopus (任意): 2-s2.0-77950996997 [継承]
評価値 (任意):
被引用数 (任意):
指導教員 (推奨):
備考 (任意): 1.(英)   (日) 「国際会議」として別データ有り EID=208833   [継承]

標準的な表示

和文冊子 ● Kim Dong-Hun, Ri-ichi Murakami, Kim Yun-Hae, Moon Kyung-Man, An Seung-Jun, Kim Tae-Hyun and Pangpang Wang : The Characteristics of Multilayer Thin Films Deposited with Metal Thin Film(Ag, Al, Cu), Advanced Materials Research, Vol.97-101, 1768-1771, 2010.
欧文冊子 ● Kim Dong-Hun, Ri-ichi Murakami, Kim Yun-Hae, Moon Kyung-Man, An Seung-Jun, Kim Tae-Hyun and Pangpang Wang : The Characteristics of Multilayer Thin Films Deposited with Metal Thin Film(Ag, Al, Cu), Advanced Materials Research, Vol.97-101, 1768-1771, 2010.

関連情報

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