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登録内容 (EID=25356)

EID=25356EID:25356, Map:0, LastModified:2013年4月3日(水) 16:40:05, Operator:[森 篤史], Avail:TRUE, Censor:0, Owner:[森 篤史], Read:継承, Write:継承, Delete:継承.
種別 (必須): 国際会議 [継承]
言語 (必須): 英語 [継承]
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審査 (推奨):
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共著種別 (推奨):
学究種別 (推奨):
組織 (推奨): 1.徳島大学.工学部.光応用工学科.光機能材料講座 [継承]
2.大阪府立大学 [継承]
著者 (必須): 1. (英) Shirazawa Futoshi (日) 白澤 太志 (読) しらざわ ふとし
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学籍番号 (推奨):
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2.森 篤史
役割 (任意):
貢献度 (任意):
学籍番号 (推奨):
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3. (英) Inoue Naohisa (日) 井上 直久 (読) いのうえ なおひさ
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学籍番号 (推奨):
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題名 (必須): (英) Molecular Dynamics Simulation of Crystal/Melt Interface in Temperature Gradient  (日)    [継承]
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発行所 (推奨):
誌名 (必須): (英) Abstract of The Thirteenth International Conference on Crystal Growth in Conjunction with The Eleventh International Conference on Vapor Growth and Epitaxy (日) (読)
ISSN (任意):
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(必須):
(必須):
(必須): 500 500 [継承]
都市 (必須): 京都 (Kyoto/[日本国]) [継承]
年月日 (必須): 西暦 2001年 8月 4日 (平成 13年 8月 4日) [継承]
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備考 (任意): 1.(英) The Thirteenth International Conference on Crystal Growth in Conjunction with The Eleventh International Conference on Vapor Growth and Epitaxy, July 30-August 4, 2001  (日)    [継承]
2.(英) 04a-K32-06, T05-2 Melt growth fundamentals #2  (日)    [継承]

標準的な表示

和文冊子 ● Futoshi Shirazawa, Atsushi Mori and Naohisa Inoue : Molecular Dynamics Simulation of Crystal/Melt Interface in Temperature Gradient, Abstract of The Thirteenth International Conference on Crystal Growth in Conjunction with The Eleventh International Conference on Vapor Growth and Epitaxy, (巻), (号), 500, Kyoto, Aug. 2001.
欧文冊子 ● Futoshi Shirazawa, Atsushi Mori and Naohisa Inoue : Molecular Dynamics Simulation of Crystal/Melt Interface in Temperature Gradient, Abstract of The Thirteenth International Conference on Crystal Growth in Conjunction with The Eleventh International Conference on Vapor Growth and Epitaxy, (巻), (号), 500, Kyoto, Aug. 2001.

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Number of session users = 0, LA = 0.75, Max(EID) = 376482, Max(EOID) = 1008283.