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登録内容 (EID=25351)

EID=25351EID:25351, Map:0, LastModified:2011年9月25日(日) 18:41:20, Operator:[森 篤史], Avail:TRUE, Censor:0, Owner:[森 篤史], Read:継承, Write:継承, Delete:継承.
種別 (必須): その他·研究会 [継承]
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学究種別 (推奨):
組織 (推奨): 1.大阪府立大学 [継承]
2.徳島大学.工学部.光応用工学科.光機能材料講座 [継承]
著者 (必須): 1. (英) Inoue Naohisa (日) 井上 直久 (読) いのうえ なおひさ
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学籍番号 (推奨):
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2.森 篤史
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学籍番号 (推奨):
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3. (英) Uda Satoshi (日) 宇田 聡 (読) うだ さとし
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学籍番号 (推奨):
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4. (英) Mikayama Takeshi (日) 三箇山 毅 (読) みかやま たけし
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学籍番号 (推奨):
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5. (英) Harada Hidaeki (日) 原田 英明 (読) はらだ ひであき
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学籍番号 (推奨):
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題名 (必須): (英) Distribution coefficient at solid/liquid interface in melt growth of Si  (日)    [継承]
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キーワード (推奨):
発行所 (推奨):
誌名 (必須): (英) Proceedings of the Sixth Symposium on Atomic-scale Surface and Interface Dynamics (日) (読)
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(必須):
(必須):
(必須): 17 20 [継承]
都市 (必須): 東京 (Tokyo/[日本国]) [継承]
年月日 (必須): 西暦 2002年 3月 1日 (平成 14年 3月 1日) [継承]
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和文冊子 ● Naohisa Inoue, Atsushi Mori, Satoshi Uda, Takeshi Mikayama and Hidaeki Harada : Distribution coefficient at solid/liquid interface in melt growth of Si, Proceedings of the Sixth Symposium on Atomic-scale Surface and Interface Dynamics, (巻), (号), 17-20, March 2002.
欧文冊子 ● Naohisa Inoue, Atsushi Mori, Satoshi Uda, Takeshi Mikayama and Hidaeki Harada : Distribution coefficient at solid/liquid interface in melt growth of Si, Proceedings of the Sixth Symposium on Atomic-scale Surface and Interface Dynamics, (巻), (号), 17-20, March 2002.

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Number of session users = 2, LA = 1.48, Max(EID) = 376483, Max(EOID) = 1008286.