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登録内容 (EID=24508)

EID=24508EID:24508, Map:0, LastModified:2006年5月10日(水) 13:42:52, Operator:[三木 ちひろ], Avail:TRUE, Censor:承認済, Owner:[平野 朋広], Read:継承, Write:継承, Delete:継承.
○種別 (必須): □国内講演発表 [継承]
○言語 (必須):
○招待 (推奨):
○審査 (推奨):
○カテゴリ (推奨):
○共著種別 (推奨):
○学究種別 (推奨):
○組織 (推奨): 1.徳島大学.工学部.化学応用工学科.物質合成化学講座 (〜2023年3月31日) [継承]
○著者 (必須): 1. (英) (日) 大木 隆行 (読)
○役割 (任意):
○貢献度 (任意):
○学籍番号 (推奨):
[継承]
2.平野 朋広 ([徳島大学.大学院社会産業理工学研究部.理工学域.応用化学系.物質合成化学分野]/[徳島大学.理工学部.理工学科.応用化学システムコース.物質合成化学講座])
○役割 (任意):
○貢献度 (任意):
○学籍番号 (推奨):
[継承]
3.妹尾 真紀子
○役割 (任意):
○貢献度 (任意):
○学籍番号 (推奨):
[継承]
4.佐藤 恒之
○役割 (任意):
○貢献度 (任意):
○学籍番号 (推奨):
[継承]
○題名 (必須): □(英)   (日) 3-エチル-3-メタクリロイルオキシメチルオキセタンのラジカルおよびカチオン重合   [継承]
○副題 (任意):
○要約 (任意):
○キーワード (推奨):
○発行所 (推奨): □社団法人 高分子学会 [継承]
○誌名 (必須): □ (英) (日) 第49回高分子討論会予稿集 (読) こうぶんしとうろんかいよこうしゅう
○ISSN (任意):
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○巻 (必須): □49 [継承]
○号 (必須): □7 [継承]
○頁 (必須): □1147 1148 [継承]
○都市 (必須): □ (英) Sendai (日) 仙台 (読) せんだい [継承]
○年月日 (必須): □西暦 2000年 9月 27日 (平成 12年 9月 27日) [継承]
○URL (任意):
○DOI (任意):
○PMID (任意):
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標準的な表示

和文冊子 ● 大木 隆行, 平野 朋広, 妹尾 真紀子, 佐藤 恒之 : 3-エチル-3-メタクリロイルオキシメチルオキセタンのラジカルおよびカチオン重合, 第49回高分子討論会予稿集, 49, 7, 1147-1148, 2000年9月.
欧文冊子 ● 大木 隆行, Tomohiro Hirano, Makiko Seno and Tsuneyuki Sato : 3-エチル-3-メタクリロイルオキシメチルオキセタンのラジカルおよびカチオン重合, 第49回高分子討論会予稿集, 49, 7, 1147-1148, Sep. 2000.

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