『徳島大学 教育・研究者情報データベース (EDB)』---[学外] /
ID: Pass:

登録内容 (EID=232749)

EID=232749EID:232749, Map:0, LastModified:2022年7月8日(金) 11:37:39, Operator:[三木 ちひろ], Avail:TRUE, Censor:0, Owner:[杉山 茂], Read:継承, Write:継承, Delete:継承.
カテゴリ (必須): 研究 [継承]
団体 (必須): 社団法人 化学工学会 [継承]
名称 (必須): (英) (日) 化学工学会第41回秋季大会シンポジウム,材料・界面部会ポスターセッション,優秀ポスター賞 (読) かがくこうがくかい しゅうきたいかいしんぽじうむ ざいりょう かいめんぽすたーせっしょん ゆうしゅうぽすたーしょう [継承]
組織 (推奨): 1.徳島大学.大学院ソシオテクノサイエンス研究部.先進物質材料部門.機能性材料 (2006年4月1日〜2016年3月31日) [継承]
受賞者 (必須): 1. (英) Ogata Toshimasa (日) 尾方 敏匡 (読) おがた としまさ
学籍番号 (推奨):
[継承]
2.中川 敬三
学籍番号 (推奨):
[継承]
3.外輪 健一郎
学籍番号 (推奨):
[継承]
4.杉山 茂
学籍番号 (推奨):
[継承]
テーマ (必須): (英)   (日) 界面活性剤を利用した水熱合成法によるセリアナノ粒子の合成と炭酸イオン添加効果   [継承]
年月日 (必須): 西暦 2009年 9月 18日 (平成 21年 9月 18日) [継承]
指導教員 (推奨):
備考 (任意):

標準的な表示

和文冊子 ● 尾方 敏匡, 中川 敬三, 外輪 健一郎, 杉山 茂 : 界面活性剤を利用した水熱合成法によるセリアナノ粒子の合成と炭酸イオン添加効果, 化学工学会第41回秋季大会シンポジウム,材料・界面部会ポスターセッション,優秀ポスター賞, 社団法人 化学工学会, 2009年9月.
欧文冊子 ● Toshimasa Ogata, Keizo Nakagawa, Ken-Ichiro Sotowa and Shigeru Sugiyama : 界面活性剤を利用した水熱合成法によるセリアナノ粒子の合成と炭酸イオン添加効果, 化学工学会第41回秋季大会シンポジウム,材料・界面部会ポスターセッション,優秀ポスター賞, The Society of Chemical Engineers,Japan, Sep. 2009.

関連情報

Number of session users = 0, LA = 0.54, Max(EID) = 414775, Max(EOID) = 1119662.