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登録内容 (EID=21076)

EID=21076EID:21076, Map:0, LastModified:2018年12月3日(月) 17:52:24, Operator:[大家 隆弘], Avail:TRUE, Censor:承認済, Owner:[三輪 昌史], Read:継承, Write:継承, Delete:継承.
種別 (必須): 学術論文 (審査論文) [継承]
言語 (必須): 英語 [継承]
招待 (推奨):
審査 (推奨): Peer Review [継承]
カテゴリ (推奨): 研究 [継承]
共著種別 (推奨):
学究種別 (推奨):
組織 (推奨): 1.徳島大学.工学研究科.エコシステム工学専攻.資源循環工学講座 (〜2014年3月31日) [継承]
2.徳島大学.工学部.機械工学科.機械科学講座 [継承]
著者 (必須): 1.三輪 昌史 ([徳島大学.大学院社会産業理工学研究部.理工学域.機械科学系.知能機械学分野]/[徳島大学.理工学部.理工学科.機械科学コース.知能機械学講座])
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学籍番号 (推奨):
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2.ヨードカシス サウリウス ([北海道大学])
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学籍番号 (推奨):
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3. (英) Kawakami, T. (日) (読)
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学籍番号 (推奨):
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4.松尾 繁樹
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貢献度 (任意):
学籍番号 (推奨):
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5.三澤 弘明 ([北海道大学])
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貢献度 (任意):
学籍番号 (推奨):
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題名 (必須): (英) Femtosecond two-photon Stereo-lithography  (日)    [継承]
副題 (任意):
要約 (任意): (英)   (日) 集光フェムト秒パルスレーザーを光硬化性樹脂に照射し,多光子吸収により局所的な光固化反応を誘起して3次元微小構造物の作製に成功した.   [継承]
キーワード (推奨):
発行所 (推奨): Springer-Verlag [継承]
誌名 (必須): Applied Physics. A, Materials Science & Processing ([Springer-Verlag])
(pISSN: 0947-8396, eISSN: 1432-0630)

ISSN (任意): 0947-8396
ISSN: 0947-8396 (pISSN: 0947-8396, eISSN: 1432-0630)
Title: Applied physics. A, Materials science & processing
Title(ISO): Appl Phys A Mater Sci Process
Supplier: Springer Online Journal Archive
Publisher: Springer
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(必須): 73 [継承]
(必須): 5 [継承]
(必須): 561 566 [継承]
都市 (任意):
年月日 (必須): 西暦 2001年 10月 9日 (平成 13年 10月 9日) [継承]
URL (任意):
DOI (任意): 10.1007/s003390100934    (→Scopusで検索) [継承]
PMID (任意):
CRID (任意):
WOS : 000171991200006 [継承]
Scopus (任意): 2-s2.0-0035500936 [継承]
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標準的な表示

和文冊子 ● Masafumi Miwa, Saulius Juodkazis, T. Kawakami, Shigeki Matsuo and Hiroaki Misawa : Femtosecond two-photon Stereo-lithography, Applied Physics. A, Materials Science & Processing, 73, 5, 561-566, 2001.
欧文冊子 ● Masafumi Miwa, Saulius Juodkazis, T. Kawakami, Shigeki Matsuo and Hiroaki Misawa : Femtosecond two-photon Stereo-lithography, Applied Physics. A, Materials Science & Processing, 73, 5, 561-566, 2001.

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Number of session users = 0, LA = 0.40, Max(EID) = 444131, Max(EOID) = 1177873.