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登録内容 (EID=20145)

EID=20145EID:20145, Map:0, LastModified:2022年8月30日(火) 19:25:50, Operator:[大家 隆弘], Avail:TRUE, Censor:承認済, Owner:[[学科長]/[徳島大学.工学部.機械工学科]], Read:継承, Write:継承, Delete:継承.
○種別 (必須): □学術論文 (審査論文) [継承]
○言語 (必須):
○招待 (推奨):
○審査 (推奨): □Peer Review [継承]
○カテゴリ (推奨): □研究 [継承]
○共著種別 (推奨):
○学究種別 (推奨):
○組織 (推奨): 1.徳島大学.工学部.機械工学科.生産システム講座 (〜2023年3月31日) [継承]
○著者 (必須): 1. (英) (日) 松英 達也 (読)
○役割 (任意):
○貢献度 (任意):
○学籍番号 (推奨):
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2.英 崇夫
○役割 (任意): □共著 [継承]
○貢献度 (任意):
○学籍番号 (推奨):
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3. (英) (日) 池内 保一 (読)
○役割 (任意):
○貢献度 (任意):
○学籍番号 (推奨):
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○題名 (必須): □(英) Effect of Processing Conditions on Structure of TiN Films Deposited by Arc Ion Plating  (日) アーク·イオンプレーティング法によるTiN膜の結晶状態に対する成膜条件の影響   [継承]
○副題 (任意):
○要約 (任意): □(英)   (日) アークイオンプレーティングの蒸着条件がTiN膜の結晶構造に及ぼす影響をX線回折法により検討した研究である．バイアス電圧とアーク電流を変化させ，Tin膜の結晶構造に及ぼす影響を調べた．TiN膜の結晶構造は主としてバイアス電圧に影響される．0Vのとき，TiN膜は{110}配向し，-100Vでは{111}配向した．これに対して，アーク電流は結晶配向性にはほとんど影響しない． 窒素とチタンの成分比をXPSにより測定した結果，N/Ti比の最大値は0.89であり，そのとき膜は{110}および{111}の混合配となった．   [継承]
○キーワード (推奨):
○発行所 (推奨): □日本材料学会 [継承]
○誌名 (必須): □材料 ([日本材料学会])
(pISSN: 0514-5163, eISSN: 1880-7488)

○ISSN (任意): □0514-5163
ISSN: 0514-5163 (pISSN: 0514-5163, eISSN: 1880-7488)
Title: 材料
Supplier: 社団法人日本材料学会
Publisher: Society of Materials Science Japan
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○巻 (必須): □50 [継承]
○号 (必須): □7 [継承]
○頁 (必須): □707 712 [継承]
○都市 (任意): □京都 (Kyoto/[日本国]) [継承]
○年月日 (必須): □西暦 2001年 7月 1日 (平成 13年 7月 1日) [継承]
○URL (任意):
○DOI (任意):
○PMID (任意):
○CRID (任意):
○Scopus (任意): □2-s2.0-0035387628 [継承]
○researchmap (任意):
○評価値 (任意):
○被引用数 (任意):
○指導教員 (推奨):
○備考 (任意):

標準的な表示

和文冊子 ● 松英 達也, 英 崇夫, 池内 保一 : アーク·イオンプレーティング法によるTiN膜の結晶状態に対する成膜条件の影響, 材料, 50, 7, 707-712, 2001年.
欧文冊子 ● 松英 達也, Takao Hanabusa and 池内 保一 : Effect of Processing Conditions on Structure of TiN Films Deposited by Arc Ion Plating, Journal of the Society of Materials Science, Japan, 50, 7, 707-712, 2001.

関連情報

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