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登録内容 (EID=19916)

EID=19916EID:19916, Map:0, LastModified:2010年11月5日(金) 15:55:17, Operator:[三木 ちひろ], Avail:TRUE, Censor:承認済, Owner:[[学科長]/[徳島大学.工学部.機械工学科]], Read:継承, Write:継承, Delete:継承.
○種別 (必須): □学術論文 (審査論文) [継承]
○言語 (必須):
○招待 (推奨):
○審査 (推奨): □Peer Review [継承]
○カテゴリ (推奨): □研究 [継承]
○共著種別 (推奨):
○学究種別 (推奨):
○組織 (推奨): 1.徳島大学.工学部.機械工学科.生産システム講座 (〜2023年3月31日) [継承]
○著者 (必須): 1. (英) Matsue Tatsuya (日) (読)
○役割 (任意):
○貢献度 (任意):
○学籍番号 (推奨):
[継承]
2.英 崇夫
○役割 (任意): □共著 [継承]
○貢献度 (任意):
○学籍番号 (推奨):
[継承]
3. (英) Ikeuchi Yasukazu (日) (読)
○役割 (任意):
○貢献度 (任意):
○学籍番号 (推奨):
[継承]
○題名 (必須): □(英) Influence of Processing Conditions on Structure of TiN Films Deposited by Arc Ion Plating  (日)    [継承]
○副題 (任意):
○要約 (任意): □(英)   (日) アークイオンプレーティングにより成膜したTiN膜の成膜条件と膜の配向特性についてX線回折法により研究した論文である．バイアス電圧とアーク電流を成膜条件のパラメータとして実験した結果，膜構造に対してはバイアス電圧が重要な因子であることがわかった．バイアス電圧が0Vのときには{110}配向を示し，-100Vの条件では{111}配向特性を示すことが明らかになった．それに対して，アーク電流は膜構造に変化を与えなかった．   [継承]
○キーワード (推奨):
○発行所 (推奨): □日本材料学会 [継承]
○誌名 (必須): □ (英) Materials Science Research International, Special Technical Publication (日) (読)
○ISSN (任意):
[継承]
○巻 (必須): □1 [継承]
○号 (必須):
○頁 (必須): □303 306 [継承]
○都市 (任意): □京都 (Kyoto/[日本国]) [継承]
○年月日 (必須): □西暦 2001年 5月 10日 (平成 13年 5月 10日) [継承]
○URL (任意):
○DOI (任意):
○PMID (任意):
○CRID (任意):
○Scopus (任意):
○researchmap (任意):
○評価値 (任意):
○被引用数 (任意):
○指導教員 (推奨):
○備考 (任意):

標準的な表示

和文冊子 ● Tatsuya Matsue, Takao Hanabusa and Yasukazu Ikeuchi : Influence of Processing Conditions on Structure of TiN Films Deposited by Arc Ion Plating, Materials Science Research International, Special Technical Publication, 1, (号), 303-306, 2001.
欧文冊子 ● Tatsuya Matsue, Takao Hanabusa and Yasukazu Ikeuchi : Influence of Processing Conditions on Structure of TiN Films Deposited by Arc Ion Plating, Materials Science Research International, Special Technical Publication, 1, (号), 303-306, 2001.

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