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登録内容 (EID=18748)

EID=18748EID:18748, Map:0, LastModified:2005年7月27日(水) 13:27:29, Operator:[近江 千代子], Avail:TRUE, Censor:0, Owner:[岡本 敏弘], Read:継承, Write:継承, Delete:継承.
種別 (必須): 学術論文 (審査論文) [継承]
言語 (必須): 英語 [継承]
招待 (推奨):
審査 (推奨):
カテゴリ (推奨):
共著種別 (推奨):
学究種別 (推奨):
組織 (推奨): 1.徳島大学.工学部.光応用工学科.光機能材料講座 [継承]
著者 (必須): 1. (英) Hanamoto Kazuhisa (日) (読)
役割 (任意):
貢献度 (任意):
学籍番号 (推奨):
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2. (英) Shinya Akihiko (日) (読)
役割 (任意):
貢献度 (任意):
学籍番号 (推奨):
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3.桑原 稔 ([徳島大学.工学部.光応用工学科])
役割 (任意): (英)   (日) 実験,解析   [継承]
貢献度 (任意):
学籍番号 (推奨):
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4.岡本 敏弘 ([徳島大学.ポストLEDフォトニクス研究所]/[徳島大学.理工学部.理工学科.情報光システムコース.光機能材料講座])
役割 (任意): (英)   (日) 実験,解析   [継承]
貢献度 (任意):
学籍番号 (推奨):
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5.原口 雅宣 ([徳島大学.大学院社会産業理工学研究部.理工学域.光応用系.光機能材料分野]/[徳島大学.理工学部.理工学科.情報光システムコース.光機能材料講座]/[徳島大学.ポストLEDフォトニクス研究所])
役割 (任意): (英)   (日) 計画·実験指導·実験·解析·考察   [継承]
貢献度 (任意):
学籍番号 (推奨):
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6.福井 萬壽夫
役割 (任意): (英)   (日) 計画,考察,記述   [継承]
貢献度 (任意):
学籍番号 (推奨):
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7. (英) Koto Kichiro (日) (読)
役割 (任意):
貢献度 (任意):
学籍番号 (推奨):
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題名 (必須): (英) Optical constants and growth mode of Ni films deposited on evaporated Al, Ag and Cu films  (日)    [継承]
副題 (任意):
要約 (任意): (英)   (日) Ni/Al(AlOx·Al), Ni/Ag, Ni/Cu(CuOx·Cu)の2層構造のNi膜の光学定数と構造をATR法,SEM,X線回折法を用いて明らかにした.Al(AlOx·Al),CuOxCuの上のNi膜は島状構造で,Cu上では層状構造となることが判明した.Ag上では,SEMはNi膜が島状構造となっていることを示し,ATR法は成長の初期段階で連続膜の光学定数となることを示した.   [継承]
キーワード (推奨):
発行所 (推奨): Elsevier (->組織[Elsevier Science]) [継承]
誌名 (必須): Surface Science (Elsevier B.V.)
(resolved by 0039-6028)
ISSN: 0039-6028 (pISSN: 0039-6028)
Title: Surface science
Title(ISO): Surf Sci
Publisher: Elsevier BV
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ISSN (任意):
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(必須): 409 [継承]
(必須): 3 [継承]
(必須): 413 420 [継承]
都市 (任意):
年月日 (必須): 西暦 1998年 7月 10日 (平成 10年 7月 10日) [継承]
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標準的な表示

和文冊子 ● Kazuhisa Hanamoto, Akihiko Shinya, Minoru Kuwahara, Toshihiro Okamoto, Masanobu Haraguchi, Masuo Fukui and Kichiro Koto : Optical constants and growth mode of Ni films deposited on evaporated Al, Ag and Cu films, Surface Science, Vol.409, No.3, 413-420, 1998.
欧文冊子 ● Kazuhisa Hanamoto, Akihiko Shinya, Minoru Kuwahara, Toshihiro Okamoto, Masanobu Haraguchi, Masuo Fukui and Kichiro Koto : Optical constants and growth mode of Ni films deposited on evaporated Al, Ag and Cu films, Surface Science, Vol.409, No.3, 413-420, 1998.

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