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種別 (必須): 学術論文 (審査論文) [継承]
言語 (必須): 英語 [継承]
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組織 (推奨): 1.徳島大学.工学部.電気電子工学科.物性デバイス講座 [継承]
著者 (必須): 1.川上 烈生 ([徳島大学.大学院社会産業理工学研究部.理工学域.電気電子系.物性デバイス分野]/[徳島大学.理工学部.理工学科.電気電子システムコース.物性デバイス講座])
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貢献度 (任意):
学籍番号 (推奨):
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2. (英) Takeshi Inaoka (日) 島田 朋尚 (読) しまだともひさ
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学籍番号 (推奨):
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3. (英) Akinobu Kuwahara (日) (読)
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学籍番号 (推奨):
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4.富永 喜久雄
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学籍番号 (推奨):
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5. (英) Takashi Mukai (日) (読)
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学籍番号 (推奨):
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題名 (必須): (英) Synergy Effect of Particle Radiation and Ultraviolet Radiation from Capacitively Coupled Radio Frequency Argon Plasmas on n-GaN Etching Damage  (日)    [継承]
副題 (任意):
要約 (任意): (英) The change in the morphology of n-GaN surfaces etched by capacitively coupled RF Ar plasmas has been studied from the viewpoint of a synergy effect of particle radiation and UV radiation from the RF plasmas. The particle radiation (in particular, the energy of Ar+ impinging on n-GaN) is intensified with decreasing gas pressure from 200 to 10 mTorr, whereas the intensity of the UV radiation (whose peak wavelength corresponds to the GaN band-gap energy) is significantly weakened. The reverse result occurs when the gas pressure increases. Each type of radiation brings about a smooth surface morphology similar to that of the as-grown surface. However, at 50 or 100 mTorr, at which both types of radiation are expected to coexist, the surface morphology shows various types of pits (defects or dislocations), which seem to be induced by the synergy effect.  (日)    [継承]
キーワード (推奨): 1. (英) RF plasmas (日) (読) [継承]
2. (英) argon (日) (読) [継承]
3. (英) n-GaN (日) (読) [継承]
4. (英) plasma etching (日) (読) [継承]
5. (英) surface morphology (日) (読) [継承]
発行所 (推奨): 物理系学術誌刊行協会 [継承]
誌名 (必須): Japanese Journal of Applied Physics, Part 1 (Regular Papers & Short Notes) ([応用物理学会])
(pISSN: 0021-4922, eISSN: 1347-4065)

ISSN (任意): 0021-4922
ISSN: 0021-4922 (pISSN: 0021-4922, eISSN: 1347-4065)
Title: Japanese journal of applied physics (2008)
Title(ISO): Jpn J Appl Phys (2008)
Supplier: 社団法人応用物理学会
Publisher: Japan Society of Applied Physics
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(必須): 47 [継承]
(必須): 8 [継承]
(必須): 6863 6866 [継承]
都市 (任意): 東京 (Tokyo/[日本国]) [継承]
年月日 (必須): 西暦 2008年 7月 10日 (平成 20年 7月 10日) [継承]
URL (任意): http://ci.nii.ac.jp/naid/150000051237/ [継承]
DOI (任意): 10.1143/JJAP.47.6863    (→Scopusで検索) [継承]
PMID (任意):
NAID (任意): 40016211119 [継承]
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標準的な表示

和文冊子 ● Retsuo Kawakami, Inaoka Takeshi, Kuwahara Akinobu, Kikuo Tominaga and Mukai Takashi : Synergy Effect of Particle Radiation and Ultraviolet Radiation from Capacitively Coupled Radio Frequency Argon Plasmas on n-GaN Etching Damage, Japanese Journal of Applied Physics, Part 1 (Regular Papers & Short Notes), Vol.47, No.8, 6863-6866, 2008.
欧文冊子 ● Retsuo Kawakami, Inaoka Takeshi, Kuwahara Akinobu, Kikuo Tominaga and Mukai Takashi : Synergy Effect of Particle Radiation and Ultraviolet Radiation from Capacitively Coupled Radio Frequency Argon Plasmas on n-GaN Etching Damage, Japanese Journal of Applied Physics, Part 1 (Regular Papers & Short Notes), Vol.47, No.8, 6863-6866, 2008.

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