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登録内容 (EID=18316)

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種別 (必須): 学術論文 (審査論文) [継承]
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共著種別 (推奨):
学究種別 (推奨):
組織 (推奨): 1.徳島大学.工学部.電気電子工学科.物性デバイス講座 [継承]
2.徳島大学.工学部.化学応用工学科.化学プロセス工学講座 [継承]
著者 (必須): 1.富永 喜久雄
役割 (任意): 共著 [継承]
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学籍番号 (推奨):
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2. (英) Umezu Norio (日) (読)
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学籍番号 (推奨):
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3. (英) Mori Ichiro (日) (読)
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貢献度 (任意):
学籍番号 (推奨):
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4. (英) Ushiro Tomoko (日) (読)
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学籍番号 (推奨):
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5.森賀 俊広 ([徳島大学.大学院社会産業理工学研究部.理工学域.応用化学系.化学プロセス工学分野]/[徳島大学.理工学部.理工学科.応用化学システムコース.化学プロセス工学講座])
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6.中林 一朗
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学籍番号 (推奨):
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題名 (必須): (英) Transparent conductive ZnO film preparation by alternative sputtering of ZnO:Al target and either Zn or Al targets  (日)    [継承]
副題 (任意):
要約 (任意): (英)   (日) 本論文は,透明導電膜であるZnO:Al膜作製におけるZnの過剰添加の効果をしらべる一連の研究の中で,ZnO:AlとZnO:OVを層状にしたとき,どのような電気的,光学的特性になるのかについて検討したものである.結果は,ZnO:Alの結晶粒成長が促進され,それに並行してキャリア密度密度と移動度の増大し,光透過率も改善された.酸化アルミニウムをZnO:Alに挟む場合は,Al2O3の膜厚の増加とともにキャリア密度,移動度は減少し,抵抗率は増加した.界面でのキャリアの散乱によるものと考えられる.   [継承]
キーワード (推奨):
発行所 (推奨):
誌名 (必須): Thin Solid Films ([Elsevier])
(resolved by 0040-6090)
ISSN: 0040-6090 (pISSN: 0040-6090)
Title: Thin solid films
Title(ISO): Thin Solid Films
Publisher: Elsevier Sequoia
 (NLM Catalog  (Scopus  (CrossRef (Scopus information is found. [need login])

ISSN (任意):
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(必須): 334 [継承]
(必須):
(必須): 35 39 [継承]
都市 (任意):
年月日 (必須): 西暦 1998年 9月 1日 (平成 10年 9月 1日) [継承]
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DOI (任意):
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和文冊子 ● Kikuo Tominaga, Norio Umezu, Ichiro Mori, Tomoko Ushiro, Toshihiro Moriga and Ichiro Nakabayashi : Transparent conductive ZnO film preparation by alternative sputtering of ZnO:Al target and either Zn or Al targets, Thin Solid Films, Vol.334, (号), 35-39, 1998.
欧文冊子 ● Kikuo Tominaga, Norio Umezu, Ichiro Mori, Tomoko Ushiro, Toshihiro Moriga and Ichiro Nakabayashi : Transparent conductive ZnO film preparation by alternative sputtering of ZnO:Al target and either Zn or Al targets, Thin Solid Films, Vol.334, (号), 35-39, 1998.

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