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登録内容 (EID=174022)

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種別 (必須): 学術論文 (審査論文) [継承]
言語 (必須): 英語 [継承]
招待 (推奨):
審査 (推奨): Peer Review [継承]
カテゴリ (推奨): 研究 [継承]
共著種別 (推奨):
学究種別 (推奨):
組織 (推奨): 1.徳島大学.工学研究科.機械工学専攻 (〜2011年3月31日) [継承]
著者 (必須): 1.村上 理一
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貢献度 (任意):
学籍番号 (推奨):
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2. (英) Fukui Shinichiro (日) (読)
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学籍番号 (推奨):
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3.米倉 大介 ([徳島大学.大学院社会産業理工学研究部.理工学域.機械科学系.生産工学分野]/[徳島大学.理工学部.理工学科.機械科学コース.生産工学講座])
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学籍番号 (推奨):
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4.林 澈文
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学籍番号 (推奨):
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題名 (必須): (英) Study of Boron-doped Diamond Films by Microwave Plasma CVD Method  (日)    [継承]
副題 (任意):
要約 (任意):
キーワード (推奨):
発行所 (推奨): Trans Tech Publications Ltd [継承]
誌名 (必須): Key Engineering Materials ([Trans Tech Publications Ltd])
(pISSN: 1013-9826, eISSN: 1662-9795)

ISSN (任意): 1662-9795
ISSN: 1013-9826 (pISSN: 1013-9826, eISSN: 1662-9795)
Title: Key engineering materials
Title(ISO): Key Eng Mater
Publisher: Trans Tech Publications Ltd
 (NLM Catalog  (Scopus  (CrossRef (Scopus information is found. [need login])
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(必須): 353-358 [継承]
(必須): [継承]
(必須): 1883 1886 [継承]
都市 (任意):
年月日 (必須): 西暦 2007年 10月 初日 (平成 19年 10月 初日) [継承]
URL (任意):
DOI (任意): 10.4028/www.scientific.net/KEM.353-358.1883    (→Scopusで検索) [継承]
PMID (任意):
CRID (任意):
WOS (任意):
Scopus (任意): 2-s2.0-36048967556 [継承]
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被引用数 (任意):
指導教員 (推奨):
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標準的な表示

和文冊子 ● Ri-ichi Murakami, Shinichiro Fukui, Daisuke Yonekura and Cheol-Mun Yim : Study of Boron-doped Diamond Films by Microwave Plasma CVD Method, Key Engineering Materials, Vol.353-358, 1883-1886, 2007.
欧文冊子 ● Ri-ichi Murakami, Shinichiro Fukui, Daisuke Yonekura and Cheol-Mun Yim : Study of Boron-doped Diamond Films by Microwave Plasma CVD Method, Key Engineering Materials, Vol.353-358, 1883-1886, 2007.

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