『徳島大学 教育・研究者情報データベース (EDB)』---[学外] /
登録内容 (EID=174022)
| EID=174022 | EID:174022,
Map:0,
LastModified:2017年5月29日(月) 15:24:27,
Operator:[三好 小文],
Avail:TRUE,
Censor:承認済,
Owner:[米倉 大介],
Read:継承,
Write:継承,
Delete:継承.
|
| ○種別 (必須): | □ | 学術論文 (審査論文)
| [継承] |
| ○言語 (必須): | □ | 英語
| [継承] |
| ○招待 (推奨): |
| ○審査 (推奨): | □ | Peer Review
| [継承] |
| ○カテゴリ (推奨): | □ | 研究
| [継承] |
| ○共著種別 (推奨): |
| ○学究種別 (推奨): |
| ○組織 (推奨): | 1. | 徳島大学.工学研究科.機械工学専攻 (〜2011年3月31日)
| [継承] |
| ○著者 (必須): | 1. | 村上 理一
| ○役割 (任意): |
| ○貢献度 (任意): |
| ○学籍番号 (推奨): |
| [継承] |
| 2. | (英) Fukui Shinichiro (日) (読)
| ○役割 (任意): |
| ○貢献度 (任意): |
| ○学籍番号 (推奨): |
| [継承] |
| 3. | 米倉 大介 ([徳島大学.大学院社会産業理工学研究部.理工学域.機械科学系.生産工学分野]/[徳島大学.理工学部.理工学科.機械科学コース.生産工学講座])
| ○役割 (任意): |
| ○貢献度 (任意): |
| ○学籍番号 (推奨): |
| [継承] |
| 4. | 林 澈文
| ○役割 (任意): |
| ○貢献度 (任意): |
| ○学籍番号 (推奨): |
| [継承] |
| ○題名 (必須): | □ | (英) Study of Boron-doped Diamond Films by Microwave Plasma CVD Method (日)
| [継承] |
| ○副題 (任意): |
| ○要約 (任意): |
| ○キーワード (推奨): |
| ○発行所 (推奨): | □ | Trans Tech Publications Ltd
| [継承] |
| ○誌名 (必須): | □ | Key Engineering Materials ([Trans Tech Publications Ltd])
(pISSN: 1013-9826, eISSN: 1662-9795)
| ○ISSN (任意): | □ | 1662-9795
ISSN: 1013-9826
(pISSN: 1013-9826, eISSN: 1662-9795) Title: Key engineering materialsTitle(ISO): Key Eng MaterPublisher: Trans Tech Publications Ltd (NLM Catalog)
(Scopus)
(CrossRef)
(Scopus information is found. [need login]) | [継承] |
| [継承] |
| ○巻 (必須): | □ | 353-358
| [継承] |
| ○号 (必須): | □ |
| [継承] |
| ○頁 (必須): | □ | 1883 1886
| [継承] |
| ○都市 (任意): |
| ○年月日 (必須): | □ | 西暦 2007年 10月 初日 (平成 19年 10月 初日)
| [継承] |
| ○URL (任意): |
| ○DOI (任意): | □ | 10.4028/www.scientific.net/KEM.353-358.1883 (→Scopusで検索)
| [継承] |
| ○PMID (任意): |
| ○CRID (任意): |
| ○Scopus (任意): | 1. | 2-s2.0-36048967556
| [継承] |
| ○researchmap (任意): |
| ○評価値 (任意): |
| ○被引用数 (任意): |
| ○指導教員 (推奨): |
| ○備考 (任意): |
|
標準的な表示
| 和文冊子 ● |
Ri-ichi Murakami, Shinichiro Fukui, Daisuke Yonekura and Cheol-Mun Yim : Study of Boron-doped Diamond Films by Microwave Plasma CVD Method, Key Engineering Materials, 353-358, 1883-1886, 2007. |
| 欧文冊子 ● |
Ri-ichi Murakami, Shinichiro Fukui, Daisuke Yonekura and Cheol-Mun Yim : Study of Boron-doped Diamond Films by Microwave Plasma CVD Method, Key Engineering Materials, 353-358, 1883-1886, 2007. |
関連情報
Number of session users = 0, LA = 2.66, Max(EID) = 458598, Max(EOID) = 1218735.