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登録内容 (EID=16845)

EID=16845EID:16845, Map:0, LastModified:2013年8月27日(火) 11:39:59, Operator:[三木 ちひろ], Avail:TRUE, Censor:0, Owner:[[学科長]/[徳島大学.工学部.電気電子工学科]], Read:継承, Write:継承, Delete:継承.
種別 (必須): 国際会議 [継承]
言語 (必須):
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審査 (推奨):
カテゴリ (推奨):
共著種別 (推奨):
学究種別 (推奨):
組織 (推奨): 1.徳島大学.工学部.電気電子工学科.物性デバイス講座 [継承]
著者 (必須): 1.富永 喜久雄
役割 (任意): 共著 [継承]
貢献度 (任意):
学籍番号 (推奨):
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2. (英) Sato Yoshifumi (日) (読)
役割 (任意):
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学籍番号 (推奨):
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3. (英) Murayama Kazutaka (日) (読)
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貢献度 (任意):
学籍番号 (推奨):
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4. (英) Mori Ichiro (日) (読)
役割 (任意):
貢献度 (任意):
学籍番号 (推奨):
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題名 (必須): (英) Relation between the flux of Energetic oxygen ions and thesputtered metal atoms in oxide film deposition by reactive sputtering  (日)    [継承]
副題 (任意):
要約 (任意): (英)   (日) 反応性スパッタリングによる酸化物スパッタ膜作製における高速酸素イオンとスパッタされた金属原子の関係について調べた.酸素分圧の増加とともに,高速酸素原子とZnターゲットの酸化度は増大した.この結果は,高速酸素はターゲットの酸化領域のスパッタで生じていることを示す.また,スパッタされたZn原子からのフォトルミネッセンスは未酸化のZn領域のスパッタで生ずる.Znの酸化メカニズムは縞状酸化領域の数が酸素分圧に比例し,その縞状領域の酸化速度はその領域に入射する酸素イオン束に比例するというモデルで実験結果をうまく説明できることを示した.   [継承]
キーワード (推奨):
発行所 (推奨):
誌名 (必須): (英) Proceedings of the fifth International Symposium on Sputtering and Plasma Process (日) (読)
ISSN (任意):
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(必須): 28 29 [継承]
都市 (必須): 金沢 (Kanazawa/[日本国]) [継承]
年月日 (必須): 西暦 1999年 6月 18日 (平成 11年 6月 18日) [継承]
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和文冊子 ● Kikuo Tominaga, Yoshifumi Sato, Kazutaka Murayama and Ichiro Mori : Relation between the flux of Energetic oxygen ions and thesputtered metal atoms in oxide film deposition by reactive sputtering, Proceedings of the fifth International Symposium on Sputtering and Plasma Process, 28-29, Kanazawa, June 1999.
欧文冊子 ● Kikuo Tominaga, Yoshifumi Sato, Kazutaka Murayama and Ichiro Mori : Relation between the flux of Energetic oxygen ions and thesputtered metal atoms in oxide film deposition by reactive sputtering, Proceedings of the fifth International Symposium on Sputtering and Plasma Process, 28-29, Kanazawa, June 1999.

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