『徳島大学 教育・研究者情報データベース (EDB)』---[学外] /
ID: Pass:

登録内容 (EID=16731)

EID=16731EID:16731, Map:0, LastModified:2013年8月27日(火) 12:00:45, Operator:[三木 ちひろ], Avail:TRUE, Censor:0, Owner:[森賀 俊広], Read:継承, Write:継承, Delete:継承.
種別 (必須): 学術論文 (審査論文) [継承]
言語 (必須):
招待 (推奨):
審査 (推奨):
カテゴリ (推奨):
共著種別 (推奨):
学究種別 (推奨):
組織 (推奨): 1.徳島大学.工学部.電気電子工学科.物性デバイス講座 [継承]
2.徳島大学.工学部.化学応用工学科.化学プロセス工学講座 [継承]
著者 (必須): 1.富永 喜久雄
役割 (任意): 共著 [継承]
貢献度 (任意):
学籍番号 (推奨):
[継承]
2. (英) Umezu Norio (日) (読)
役割 (任意):
貢献度 (任意):
学籍番号 (推奨):
[継承]
3. (英) Mori Ichiro (日) (読)
役割 (任意):
貢献度 (任意):
学籍番号 (推奨):
[継承]
4. (英) Ushiro Tomoko (日) (読)
役割 (任意):
貢献度 (任意):
学籍番号 (推奨):
[継承]
5.森賀 俊広 ([徳島大学.大学院社会産業理工学研究部.理工学域.応用化学系.化学プロセス工学分野]/[徳島大学.理工学部.理工学科.応用化学システムコース.化学プロセス工学講座])
役割 (任意):
貢献度 (任意):
学籍番号 (推奨):
[継承]
6.中林 一朗
役割 (任意):
貢献度 (任意):
学籍番号 (推奨):
[継承]
題名 (必須): (英) Properties of films of multilayered ZnO:Al and ZnO deposited by an alternating sputtering method  (日)    [継承]
副題 (任意):
要約 (任意): (英)   (日) ZnO:Al ターゲットとZnターゲットを一定時間間隔で交互にスパッタする交代式スパッタ法で,ZnO:AlとZnOの多層膜構造を作製した.ZnO:Al 層の間に挟んだZnO層の効果につて調べた.ZnO:Al層の厚さを一定の下でAl2O3を2 wt%添加したZnO:Alの場合,ZnOの厚さの増加によりキャリア密度とホール移動度の両方が増加した.同時に,結晶粒成長も観察された.Al2O3=6 wt%と過剰に酸化アルミニウムを添加したZnO:Al膜に対しては移動度は増すが,キャリア密度は減少した.後者で,ZnO:Al+ZnOの厚さを一定に保ちZnOの厚さを変えると,ZnO:Al/ZnO=0.2/0.8のときZnO:Al(Al2O3=3 wt%)での最小抵抗値に近い抵抗地が得られた.両者はAl2O3の添加量が等しい.これらの結果は,ZnO:Al toZnOが共存するとき,Al2O3の一定比率の添加量で抵抗の最低値をとることを示している.   [継承]
キーワード (推奨):
発行所 (推奨):
誌名 (必須): Thin Solid Films ([Elsevier])
(resolved by 0040-6090)
ISSN: 0040-6090 (pISSN: 0040-6090)
Title: Thin solid films
Title(ISO): Thin Solid Films
Publisher: Elsevier Sequoia
 (NLM Catalog  (Scopus  (CrossRef (Scopus information is found. [need login])

ISSN (任意):
[継承]
(必須): 343-344 [継承]
(必須):
(必須): 160 163 [継承]
都市 (任意):
年月日 (必須): 西暦 1999年 1月 1日 (平成 11年 1月 1日) [継承]
URL (任意):
DOI (任意):
PMID (任意):
NAID (任意):
WOS (任意):
Scopus (任意):
評価値 (任意):
被引用数 (任意):
指導教員 (推奨):
備考 (任意):

標準的な表示

和文冊子 ● Kikuo Tominaga, Norio Umezu, Ichiro Mori, Tomoko Ushiro, Toshihiro Moriga and Ichiro Nakabayashi : Properties of films of multilayered ZnO:Al and ZnO deposited by an alternating sputtering method, Thin Solid Films, Vol.343-344, (号), 160-163, 1999.
欧文冊子 ● Kikuo Tominaga, Norio Umezu, Ichiro Mori, Tomoko Ushiro, Toshihiro Moriga and Ichiro Nakabayashi : Properties of films of multilayered ZnO:Al and ZnO deposited by an alternating sputtering method, Thin Solid Films, Vol.343-344, (号), 160-163, 1999.

関連情報

Number of session users = 0, LA = 0.28, Max(EID) = 360752, Max(EOID) = 966299.